[发明专利]成膜装置以及成膜系统

权利要求书

1.一种成膜装置，具有：能够对内部进行减压的真空腔和将所述真空腔的底面支承于地面的多个腿部，其特征在于，

所述真空腔具有在投影于所述地面时投影形状为N边形的形状，

所述成膜装置具有N+1个以上的所述多个腿部，

所述多个腿部向所述地面投影的投影位置处于包含在所述真空腔的投影形状内的环形区域内。

2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

在所述环形区域内，在真空腔的内部从大气压状态变化为减压状态时，将所述真空腔的底面的位移量相等的部位连结的线形成闭环。

3.如权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述环形区域是将长径与短径之比为0.8以上且1.0以下的所述闭环集合而成的区域。

4.如权利要求1～3中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜装置具备能够使有机材料蒸发的蒸镀源和进行掩模与基板的对位的对准机构。

5.如权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述蒸镀源是形成构成有机EL元件的有机膜的蒸镀源。

6.一种成膜系统，其特征在于，具备多个权利要求1～5中任一项所述的成膜装置。