[发明专利]屏幕位置矫正方法、装置、计算设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 201911100365.0 申请日: 2019-11-12
公开(公告)号: CN112862694A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 梁叶;李小明;黄春来;孙旺;张海涛 申请(专利权)人: 合肥欣奕华智能机器有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/30;G06T7/11;G06T7/136
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 王英
地址: 230013 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 屏幕 位置 矫正 方法 装置 计算 设备 存储 介质
【说明书】:

本申请公开了一种屏幕位置矫正方法、装置、计算设备和存储介质。该方法包括:获取所述屏幕的图像,所述图像的分辨率大于或等于预设图像分辨率,且所述图像具有预定方向的方向信息;确定所述图像中的屏幕颗粒;基于所述屏幕颗粒,确定所述图像中的屏幕区域相比于所述预定方向的偏转角度;基于所述偏转角度,在所述图像中对所述屏幕区域进行位置矫正。由此,通过对屏幕的位置矫正,为提高屏幕颗粒亮度分析的准确率提供支持。

技术领域

本申请涉及显示面板技术领域,尤其涉及一种屏幕位置矫正方法、装置、计算设备和存储介质。

背景技术

随着平面显示面板技术的不断发展,有机发光半导体OLED(OrganicLight-Emitting Diode)的研发越来越受到重视。OLED能够自己发光,可视度和亮度较高,但是其亮度均匀性是其主要面临的难题。亮度不一致会严重降低显示模组的显示品质。这种缺陷业内统称为mura缺陷。因此,在显示面板出场前一般需要对Mura缺陷进行修复,即对显示颗粒进行亮度矫正。

要解决这个问题,除了改善生产工艺,还需要采用补偿技术对其像素颗粒进行亮度补偿,尤其是外部光学补偿以消除Mura,即Demura技术。在Demura技术中,通常需要采集高分辨率图像,对屏幕颗粒亮度进行分析,进而确定亮度补偿差值。而如何实现对屏幕颗粒亮度的精准分析,确定精准的亮度补偿差值,成为保障亮度均匀性的重要前提。

发明内容

本申请的目的在于提供一种屏幕位置矫正方法、装置、计算设备和存储介质,为提高屏幕颗粒亮度分析的准确率提供支持。

第一方面,本申请实施例提供了一种屏幕位置矫正方法,包括:

获取所述屏幕的图像,所述图像的分辨率大于或等于预设图像分辨率,且所述图像具有预定方向的方向信息;

确定所述图像中的屏幕颗粒;

基于所述屏幕颗粒,确定所述图像中的屏幕区域相比于所述预定方向的偏转角度;

基于所述偏转角度,在所述图像中对所述屏幕区域进行位置矫正。

在一个实施例中,基于所述屏幕颗粒,确定所述图像中的屏幕区域相比于所述预定方向的偏转角度,包括:

基于所述屏幕颗粒,确定所述图像中与所述屏幕区域对应的最小外接矩形;

以所述最小外接矩形的指定边缘相对于所述预定方向的偏移角度,作为所述屏幕区域相比于所述预定方向的偏转角度。

在一个实施例中,基于所述屏幕颗粒,确定所述图像中与所述屏幕区域对应的最小外接矩形,包括:

基于第一尺寸的结构元素,对所述图像中的屏幕颗粒进行膨胀运算;

基于第二尺寸的结构元素,对膨胀后的屏幕颗粒进行腐蚀运算,所述第二尺寸小于所述第一尺寸;

基于所述腐蚀运算的结果,绘制所述屏幕区域的最小外接矩形。

在一个实施例中,所述第一尺寸和/或所述第二尺寸,是基于远离所述屏幕区域的边缘的屏幕颗粒的颗粒面积确定的。

在一个实施例中,所述最小外接矩形包围所述屏幕颗粒,并且所述最小外接矩形的边与所述屏幕区域的边缘之间的距离小于预定距离阈值。

在一个实施例中,基于所述偏转角度,在所述图像中对所述屏幕区域进行位置矫正,包括:

基于所述偏转角度,确定仿射变换矩阵;

基于所述仿射变换矩阵对所述屏幕区域进行仿射变换,以使得所述屏幕区域在所述图像中基于所述预定方向显示。

在一个实施例中,确定所述图像中的屏幕颗粒,包括:

对所述图像进行图像预处理;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥欣奕华智能机器有限公司,未经合肥欣奕华智能机器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911100365.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top