[发明专利]基板湿处理装置及基板清洗方法

说明书

一种基板湿处理装置及基板清洗方法，所述基板湿处理装置包含浸泡模块，设置在浸泡模块下游的喷除模块，可相对浸泡模块及喷除模块移动的进程机器，及连接进程机器的控制模块。浸泡模块包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在溶液中的浸泡支架。喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直摆放的基板。进程机器配置成一次一个地运送垂直摆放的基板。控制模块用于控制进程机器的动作，使得进程机器一次一个地将基板移动到浸泡支架，一次一个地将浸泡支架上的基板移动到喷除支架上，及一次一个地将喷除支架上的基板移出喷除模块,所述基板清洗方法通过基板湿处理装置来执行,因此可减少供存放基板的空间和支撑结构。

技术领域

本发明涉及一种湿处理装置，特别是涉及一种清洗基板的基板湿处理装置。

背景技术

一种现有清洗基板的湿处理装置包括一装满溶液的浸泡槽，一设置在所述浸泡槽下游的喷除槽，一设置在所述喷除槽下游的干燥腔，及至少一传送机器。在操作时，所述运送机器首先将一批基板移入所述浸泡槽的溶液中，接着，在浸泡作业完成后，将所述基板移出所述浸泡槽以进行接下来的喷除及干燥作业。然而，在进行喷除及干燥作业时，所述基板较佳地是被逐一处理。因此，需要额外的空间与支撑结构以存放刚完成浸泡作业的所述基板。

发明内容

因此，本发明的目的，即在提供一种可克服现有缺陷的基板湿处理装置。

于是，本发明基板湿处理装置适用于清洗基板，并包含浸泡模块，设置在所述浸泡模块下游的喷除模块，可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程机器，及连接所述进程机器的控制模块。所述浸泡模块包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在所述溶液中的浸泡支架。所述喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直摆放的基板。所述进程机器配置成一次一个地运送垂直摆放的基板。所述控制模块用于控制所述进程机器的动作，使得所述进程机器一次一个地将基板移动到所述浸泡支架，一次一个地将所述浸泡支架上的基板移动到所述喷除支架上，及一次一个地将所述喷除支架上的基板移出所述喷除模块。

本发明的另一目的，在提供一种由所述基板湿处理装置执行基板清洗方法。

所述基板清洗方法包含以下步骤：a)每隔一预定时间，所述进程机器移动一个基板到所述浸泡支架上，直到所述浸泡模块中放置预定数量的基板；b)每隔所述预定时间，所述进程机器将所述浸泡支架上放置最久的基板移动至所述喷除支架上，并移动一个基板到所述浸泡支架上，直到所述喷除模块中放置预定数量的基板；及c)每隔所述预定时间，所述进程机器将所述喷除模块中放置最久的基板移出所述喷除模块，将所述浸泡支架上放置最久的基板移动至所述喷除支架上，并移动一个基板到所述浸泡支架上。

本发明的有益效果在于:借由具有上述结构的基板湿处理装置和通过所述基板湿处理装置执行的基板清洗方法,每个经过处理的基板在所述基板湿处理装置的清洗单元中待的时间大致相同，因此，不需要额外的空间与支撑结构以存放刚完成浸泡作业的基板。

附图说明

图1是一示意俯视图，说明本发明的一基板湿处理装置的实施例；

图2是一部分立体图，说明所述基板湿处理装置的一传送机器；

图3A到图3C是部分立体图，说明所述基板湿处理装置的一第一转向台的操作；

图4是一部分立体图，说明所述第一转向台与所述基板湿处理装置的一进程机器之间的合作；

图5是一部分立体图，说明所述进程机器与所述基板湿处理装置的一浸泡模块；

图6是一部分立体图，说明所述进程机器与所述浸泡模块的一浸泡支架之间的合作；

图7是一部分立体图，说明所述基板湿处理装置的一喷除模块；

图8是一部分立体图，说明所述基板湿处理装置的一第二转向台与一清洗/干燥模块；