[发明专利]基板湿处理装置及基板清洗方法

权利要求书

1.一种基板湿处理装置，适用于清洗基板,其特征在于：所述基板湿处理装置包含：

浸泡模块，包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在所述溶液中的浸泡支架；

设置在所述浸泡模块下游的喷除模块，所述喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直摆放的基板；

可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程机器，所述进程机器配置成一次一个地运送垂直摆放的基板；及

连接所述进程机器的控制模块，所述控制模块用于控制所述进程机器的动作，使得所述进程机器一次一个地将基板移动到所述浸泡支架，一次一个地将所述浸泡支架上的基板移动到所述喷除支架上，及一次一个地将所述喷除支架上的基板移出所述喷除模块。

2.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述进程机器包括可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程座，设置在所述进程座且可相对所述进程座沿上下方向移动的基架，两个互相间隔并由所述基架向下延伸的延伸架，及两个分别设置在所述延伸架末端并相向延伸，且共同支撑基板的下部的进程爪。

3.根据权利要求2所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述进程机器以一种方式运送所述基板，使得所述基板的法向量与其前进方向平行，且，由所述基架、所述延伸架及所述进程爪共同界定的空间的尺寸大于所述基板具有所述法向量的面，使得所述基板可以通过所述空间。

4.根据权利要求2所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述浸泡支架可相对所述浸泡槽沿着所述上下方向往复移动，由所述进程机器的所述基架，所述延伸架及所述进程爪共同界定的所述空间的尺寸，足以让所述基板受到所述浸泡支架的带动在其中上下移动，所述进程爪间的距离大于所述浸泡支架沿横向的宽度。

5.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：每个喷除支架包括架体，两个支撑轮，及定位件，所述支撑轮互相间隔并可转动地设置在所述架体上，并用于共同支撑所述垂直摆放的基板，所述定位件可移动地设置在所述架体上，并用于定位所述基板上部。

6.根据权利要求5所述的基板湿处理装置，其特征在于：每个支撑轮形成有环型定位槽，用于嵌合所述基板的周围的一部分。

7.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述喷除模块包括多个分别供所述喷除支架设置其中的喷除槽，及多个分别设置在所述喷除槽中且用于喷出高压液体的所述喷嘴。

8.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述基板湿处理装置还包含设置在所述喷除模块下游的清洗/干燥模块，设置在所述浸泡模块上游的第一转向台，及设置在所述喷除模块及所述清洗/干燥模块之间的第二转向台。

9.根据权利要求8所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述清洗/干燥模块包括干燥座，及可旋转地安装在所述干燥座上且用于承载水平放置的基板的旋转台。

10.根据权利要求8所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述第一转向台包括转向座，四个设置在所述转向座上的抵靠件，及四个可移动地设置在所述转向座上的转向爪，所述转向座可在水平位置及垂直位置间移动，所述抵靠件用于支撑或抵靠基板，所述转向爪可松开地夹持所述基板，所述第一转向台用于将水平摆放的基板转置为垂直摆放，以让所述进程机器运送。

11.根据权利要求8所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述第二转向台包括转向座，四个设置在所述转向座上的抵靠件，及四个可移动地设置在所述转向座上的转向爪，所述转向座可在水平位置及垂直位置间移动，所述抵靠件用于支撑或抵靠基板，所述转向爪可松开地夹持所述基板，所述第二转向台用于将在所述进程机器上垂直摆放的所述基板转置为水平摆放在所述清洗/干燥模块上。

12.一种基板清洗方法，由如权利要求1所述的基板湿处理装置执行，其特征在于：所述基板清洗方法包含以下步骤：

a)每隔一预定时间，所述进程机器移动一个基板到所述浸泡支架上，直到所述浸泡模块中放置预定数量的基板；

b)每隔所述预定时间，所述进程机器将所述浸泡支架上放置最久的基板移动至所述喷除支架上，并移动一个基板到所述浸泡支架上，直到所述喷除模块中放置预定数量的基板；及

c)每隔所述预定时间，所述进程机器将所述喷除模块中放置最久的基板移出所述喷除模块，将所述浸泡支架上放置最久的基板移动至所述喷除支架上，并移动一个基板到所述浸泡支架上。