[发明专利]镀膜生产线控制方法

说明书

本发明公开了一种镀膜生产线控制方法，方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，上述方法可以实时检测基片的位置，并根据基片的位置对整个镀膜生产线各个腔室的真空范围进行调节，此外还可以对基片的传动速度进行调节，从而可以对整个生产线进行控制，进而保证了镀膜的准确性。形成一环形流水线，节约占地面积，整个镀膜生产线中基片传送采用智能控制，节约人力物力，提供生产效率，镀膜流水线中各腔室依据产品需求更换或增加，整条镀膜生产线适应多种镀膜工艺要求，使用寿命延长，节约资源。

技术领域

本发明涉及一种镀膜生产线控制方法，属于电气控制领域。

背景技术

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的产品被称为基片，镀的材料被称为靶材。

为了减少工艺的复杂性，镀膜生产线中的各腔室空间狭小，仅能容基片架穿过，基片架在各腔室中通过安装在各腔室的传动机构传送，但是传统工艺中需要专业人员时刻关注生产线，且在手动进行操作，以便于生产线上的各个工艺及时进行，智能化水平不够。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供一种能够提高智能化水平的镀膜生产线控制方法。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

一种镀膜生产线控制方法，所述方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过所述上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，所述方法包括：

检测进口室内是否传入基片，当所述进口室传入基片时，则通过真空泵将所述生产线上各个腔室抽真空至中真空范围，并将所述基片传送入进口缓冲室；

检测进口缓冲室是否传入基片，当所述进口缓冲室传入基片时，则对所述基片进行加热，并将所述基片传送至进口过渡室；

检测进口过渡室是否传入基片，当所述进口过渡室传入基片时，则对所述基片进行加热，并通过真空泵和分子泵对所述进口过渡室以及所述生产线后续的预设腔室进行抽真空至高真空范围，并将所述基片传送至清洗室；

检测清洗室是否传入基片，当所述清洗室传入基片时，则启动等离子设备对所述基片进行清洗，并控制传送基片的传动辊的运行模式从间断模式转变为连续模式，将所述基片依次传入至多个镀膜工艺室，且多个镀膜工艺室之间至少设置一个隔离室；

检测出口过渡室是否传入基片，当出口过渡室传入基片时，则控制传送基片的传动辊的运行模式从连续模式转变为间断模式，并将真空范围由高真空范围降低至中真空后，将所述基片传送至出口缓冲室；

检测出口缓冲室是否传入基片，当出口缓冲室传入基片时，则将真空范围由中真空范围降低至低真空后，将所述基片传送至出口室；

检测出口室是否传入基片，当出口室传入基片时，则将真空范围由低真空范围降低至大气状态后，开启阀门将所述基片送出所述出口室。

在其中一个实施例中，所述将所述基片依次传入至多个镀膜工艺室，包括：

实时检测所述基片当前所在的镀膜工艺室，并查询与所述镀膜工艺室对应的基片的传输速度；

通过所述基片的传输速度调整所述传动辊的运行。