[发明专利]一种ARC镀膜生产线及镀膜工艺

说明书

本发明提供了一种ARC镀膜生产线，包括呈直线依次连接的旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组、后过渡室和旋转室，工艺室组包括至少一个工艺室，进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室均沿着所述直线方向对称分隔成两个腔室，形成连通的U形通道，基于上述生产线的ARC镀膜生产工艺，包括两个依次进行、运行方向相反的流程，无需对基片镀过渡层。本发明的同一工艺室腔室内布置多个旋转阴极进行连续镀膜，无需过渡层；工艺室数量可根据具体需求增加或减少而不影响其它功能室的工作；折线形生产线使基片架上端磁连接、下端内凹的传动轮接力传送，对基片的传动平稳可靠。

技术领域

本发明涉及镀膜生产技术领域，具体为一种ARC镀膜生产线及镀膜工艺。

背景技术

真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。溅射镀膜已成为真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。镀膜生产线包括多个连续的功能室，经过前期的抽真空等步骤后进入工艺室进行镀膜操作。对于ARC(减反射)和其它镀膜，为了增强功能效果，往往需要进行多层镀膜，然而现有许多生产工艺中，每进行一层镀膜时，都需要在基片上增加一层过渡层，如此不仅增加了生产线和生产工艺的复杂性，且增加了膜的厚度。另外，多层镀膜时，现有许多工艺需要在多条独立的、非连续的生产线上完成。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供一种ARC镀膜生产线及镀膜工艺，同一工艺室腔室内布置多个旋转阴极进行连续镀膜，无需过渡层；工艺室数量可根据具体需求增加或减少而不影响其它功能室的工作；折线形生产线使基片架上端磁连接、下端内凹的传动轮接力传送，对基片的传动平稳可靠。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

一种ARC镀膜生产线，包括呈直线依次连接的旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组、后过渡室和旋转室，工艺室组包括至少一个工艺室，进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室均沿着所述直线方向对称分隔成两个腔室，形成连通的U形通道。

作为上述技术方案的进一步改进为：

旋转台和进出口室之间、进出口室和缓冲室之间、缓冲室和前过渡室之间、后过渡室和旋转室之间均设有隔断门阀。

工艺室包括彼此独立且对称的第一工艺室和第二工艺室，第一工艺室和第二工艺室沿所述直线方向各设有两组溅射阴极。

沿着所述U形通道的顺时针方向，所述四组溅射阴极对应的靶材均为Si靶。

所述溅射阴极为旋转阴极。

所述旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组和后过渡室均安装在底架上，底架支撑在地面上。

所述生产线还包括将待镀膜的基片在所述U形通道进行传送的基片传送机构，基片传送机构包括基片架、多个磁导向和多个内传动轮，多个磁导向和多个内传动轮均匀间隔布置在进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室、后过渡室和旋转室内，沿着所述U形通道形成U形传送路径，磁导向位于内传动轮上方，装载基片的基片架位于多个磁导向和多个内传动轮之间、沿着所述U形传送路径运行。

基片架垂直于水平面，基片架上端和磁导向磁性连接，下端滑设在多个内传动轮上。

内传动轮外表面沿着周向内凹，基片架下端接触并滑设在所述内凹表面上。

基片传送机构还包括磁流体、多个伺服电机、多个同步带和多个同步轮，每个同步轮通过磁流体连接一内传动轮，同一腔室内多个同步轮通过同步带连接，伺服电机连接并驱动一同步轮。