[发明专利]一种ARC镀膜生产线及镀膜工艺在审

专利信息
申请号: 201911080840.2 申请日: 2019-11-07
公开(公告)号: CN110699654A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 祝海生;陈立;唐洪波;唐莲;薛闯;金诚明;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/06
代理公司: 31253 上海精晟知识产权代理有限公司 代理人: 张超宇
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 工艺室 过渡室 过渡层 缓冲室 运行方向相反 镀膜生产线 传动平稳 镀膜生产 方向对称 连续镀膜 同一工艺 需求增加 旋转阴极 依次连接 进出口 上端 传动轮 磁连接 功能室 基片架 旋转室 旋转台 折线形 分隔 内凹 腔室 室腔 下端 连通 传送 接力 室内
【权利要求书】:

1.一种ARC镀膜生产线,包括呈直线依次连接的旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组、后过渡室和旋转室,工艺室组包括至少一个工艺室,进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室均沿着所述直线方向对称分隔成两个腔室,形成连通的U形通道。

2.根据权利要求1所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:工艺室包括彼此独立且对称的第一工艺室和第二工艺室。

3.根据权利要求1所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:所述生产线还包括将待镀膜的基片在所述U形通道进行传送的基片传送机构,基片传送机构包括基片架、多个磁导向和多个内传动轮,多个磁导向和多个内传动轮均匀间隔布置在进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室、后过渡室和旋转室内,沿着所述U形通道形成U形传送路径,磁导向位于内传动轮上方,装载基片的基片架位于多个磁导向和多个内传动轮之间、沿着所述U形传送路径运行。

4.根据权利要求3所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:基片架垂直于水平面,基片架上端和磁导向磁性连接,下端滑设在多个内传动轮上。

5.根据权利要求4所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:内传动轮外表面沿着周向内凹,基片架下端接触并滑设在所述内凹表面上。

6.根据权利要求3所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:基片传送机构还包括磁流体、多个伺服电机、多个同步带和多个同步轮,每个同步轮通过磁流体连接一内传动轮,同一腔室内多个同步轮通过同步带连接,伺服电机连接并驱动一同步轮。

7.根据权利要求3所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:所述生产线还包括冷却作用的冷却机构,冷却机构包括回水主冷却管道、进水主冷却管道和多个水冷板,多个水冷板分别安装在前过渡室、工艺室和后过渡室,多个水冷板并联连接,进水主冷却管道、水冷板和回水主冷却管道依次连接,进水主冷却管道和回水主冷却管道连接外部冷却水系统。

8.根据权利要求1所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:所述生产线还包括抽真空机构,抽真空机构包括多个分子泵,缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室各自的两个腔室上各设有两个分子泵。

9.ARC镀膜生产工艺,所述生产工艺基于权利要求1~8任一所述的ARC镀膜生产线,其特征在于:包括两个依次进行、运行方向相反的流程:

第一流程:基片依次经过旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室、后过渡室和旋转室,在工艺室完成两层镀膜;

第二流程:基片通过第一流程到达旋转室,在旋转室进行旋转掉头后,再依次经过后过渡室、工艺室、前过渡室、缓冲室、进出口室和旋转台,在工艺室对同一面再完成两层镀膜,所述基片通过旋转台退出所述生产线;

第一流程和第二流程均无需对基片镀过渡层。

10.根据权利要求9所述的ARC镀膜生产工艺,其特征在于:所述第一流程中,在工艺室通过两个磁控溅射设备依次镀第一层膜和第二层膜,第一层膜和第二层膜均为SiO2,膜厚根据膜系设计选择,靶材均为Si靶,工作气体Ar,流量为50~500sccm;反应气体为O2,流量为50~500sccm。

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