[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201911074538.6 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN111223794B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 铃木启悟 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;G03F7/16;G03F7/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 张晓霞;臧建明
地址: 日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 方法
【说明书】:

本发明提供一种适合于多片基板的同时处理和多片基板的个别处理这两种处理的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置包括上游处理部、下游处理部、第一待机部、第二待机部以及搬送机器人。上游处理部对多片基板逐片依次进行处理。下游处理部可对通过上游处理部进行了处理的两片基板同时进行处理。第一待机部使作为被上游处理部处理过的基板的第一基板待机。第二待机部使作为被上游处理部处理过的基板的、且为第一基板的下一基板的第二基板待机。搬送机器人可取出第一基板与第二基板两者、仅第一基板、和仅第二基板的任一种作为搬送对象,且可将所述搬送对象搬送至下游处理部。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

背景技术

已知晓具有多个处理装置的涂布机/显影机(coater/developer)装置。例如,在专利文献1记载的涂布机/显影机装置中,自载置于分度器(indexer)部的匣盒(cassette)中取出的多片基板依次被投入清洗装置中,然后,按顺序经由脱水烘烤装置、抗蚀剂涂布装置、预烘烤装置、曝光装置、显影装置和后烘烤装置,并再次被收容至匣盒中。

所述涂布机/显影机装置中混合存在以下两种类型的处理装置。即,混合存在平流处理装置与可变搬送型的处理装置。在所述平流处理装置中,基板是逐片地搬入。平流处理装置沿一个方向依次搬送所述基板并对基板逐片进行处理。所述平流处理装置例示有清洗装置和显影装置。

在可变搬送型的处理装置中,基板也是逐片地搬入。可变搬送型的处理装置具有:多个处理部、以及对所述多个处理部搬送基板的基板搬送部件。基板搬送部件具有:接收基板的手(hand)、以及使所述手向各处理部移动的移动机构。所述基板搬送部件自上游侧的装置逐片接收基板并将基板传递至处理部。另外,基板搬送部件还可在处理部的相互之间搬送基板。所述可变搬送型的处理装置例如例示有脱水烘烤装置。在所述脱水烘烤装置中设置有加热部和冷却部作为多个处理部。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2015-156426号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而,在此种可变搬送型的处理装置的各处理部中,例如自上游侧的平流装置逐片地搬送基板,且各处理部对基板逐片进行处理。因此,存在基板处理的生产率(throughput)低这一问题。

因此,考虑使可变搬送型的处理装置的各处理部对多片基板同时进行处理。由此可提高基板处理的生产率。

然而,可变搬送型的处理装置的各处理部总是对多片基板同时进行处理的情况不一定理想,也有理想的是各处理部对一片基板进行处理的情况。以下简单进行说明。

例如,在平流处理装置中,在先行的基板(以下称为先行基板)的处理结束之后,对继所述先行基板之后流入的基板(以下称为后续基板)进行处理。因此,先行基板需要等待后续基板的处理结束,在所述先行基板的待机期间,先行基板的状态可能会随时间变化。因此,在后续基板的处理结束时的时间点,先行基板和后续基板的状态可相互不同。当如上所述先行基板和后续基板的状态的差异变大时,等待平流处理装置中的后续基板的处理结束的情况并不优选。因此,理想的是将先行基板和后续基板依次搬送至下游侧的可变搬送型的处理装置的各处理部中,并对先行基板和后续基板逐片个别地进行处理。由此,可对状态上无差异的基板进行处理。

另一方面,若所述差异小,则理想的是下游侧的可变搬送型的处理装置的各处理部对先行基板和后续基板同时进行处理。由此,可提高生产率。

然而,以前并未考虑此种处理方法的不同,并且未提出适合于此两种处理方法的基板处理装置。

因此,本发明是鉴于所述课题而成的,其目的在于提供一种适合于多片基板的同时处理和多片基板的个别处理这两种处理的基板处理装置和基板处理方法。

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