[发明专利]校正温度的确定方法及装置、存储介质、电子装置有效
申请号: | 201911072365.4 | 申请日: | 2019-11-05 |
公开(公告)号: | CN110823381B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 王潇楠;孔令瑞;熊剑平 | 申请(专利权)人: | 浙江大华技术股份有限公司 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 江舟 |
地址: | 310051 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 校正 温度 确定 方法 装置 存储 介质 电子 | ||
本发明实施例提供了一种校正温度的确定方法及装置、存储介质、电子装置,所述方法包括:在预定环境温度下,根据反射温度确定待测黑体对应的校正灰度值;根据红外测量设备内部的半导体制冷器TEC在室温环境下显示的温度、TEC在预定环境温度下显示的温度以及待测黑体在预定环境温度下对应的校正相邻灰度差值,确定在预定环境温度下待测黑体对应的目标灰度差值;在预定环境温度下,根据红外测量设备获取的待测黑体的测量灰度值、待测黑体对应的目标灰度差值以及基准温度,确定待测黑体在预定环境温度下对应的校正温度。解决了相关技术中在环境温度变化较大时红外测量设备中的标定参数出现失常或失效导致温度测量不准确的问题。
技术领域
本发明涉及无人机技术领域,具体而言,涉及一种校正温度的确定方法及装置、存储介质、电子装置。
背景技术
随着科学技术的快速发展,人们对高精度测量温度的要求越来越高。监控型红外测量设备有着全天候非接触式测温的特点,被广泛应用于工业安全监控、消防防火、医疗健康、军事天文等领域。监控型红外测量设备在测量时受环境温度影响较大,尤其是在高温和低温变化过程中,其测量准确性会有较大波动。在生产红外测量设备的过程中,标定后将标定参数输入在设备内部,但由于使用的环境与标定环境差异过大,会造成标定参数出现失常或失效的情况。此处的标定参数包括红外测量设备使用过程中用于校正输出温度的参数。目前的相关技术中,针对标定参数出现失常或失效的情况,还没有有效的校正方法。
针对相关技术中,在环境温度变化较大时红外测量设备中的标定参数出现失常或失效导致温度测量不准确的问题,目前尚未有有效的解决办法。
发明内容
本发明实施例提供了一种校正温度的确定方法及装置、存储介质、电子装置,以至少解决相关技术中在环境温度变化较大时红外测量设备中的标定参数出现失常或失效导致温度测量不准确的问题。
根据本发明的一个实施例,提供了一种校正温度的确定方法,包括:在预定环境温度下,根据反射温度确定待测黑体对应的校正灰度值,其中,当测量场景中存在温度大于所述预定环境温度的高温物体时,确定所述反射温度为所述高温物体的温度,当测量场景中不存在温度大于所述预定环境温度的高温物体时,确定所述反射温度为所述预定环境温度;根据红外测量设备内部的半导体制冷器TEC在室温环境下显示的温度、所述TEC在所述预定环境温度下显示的温度以及所述待测黑体在所述预定环境温度下对应的校正相邻灰度差值,确定在所述预定环境温度下所述待测黑体对应的目标灰度差值,其中,所述校正相邻灰度差值为相邻两个设定温度的所述待测黑体对应的校正灰度值之差;在所述预定环境温度下,根据所述红外测量设备获取的所述待测黑体的测量灰度值、所述待测黑体对应的目标灰度差值以及基准温度,确定所述待测黑体在所述预定环境温度下对应的校正温度,其中,所述基准温度为根据所述红外测量设备的腔体温度校正后的温度。
可选地,在不同的环境温度下,根据反射温度确定待测黑体对应的校正灰度值之前,所述方法还包括:在室温环境下,获取不同设定温度的待测黑体对应的灰度值,其中,所述待测黑体的设定温度包括N个等间距取值的温度值,N为大于1的整数;根据不同设定温度的所述待测黑体对应的灰度值,获取室温环境下所述待测黑体的设定温度与相邻灰度差值的映射关系,其中,所述相邻灰度差值为相邻两个设定温度的所述待测黑体对应的灰度值之差;根据所述待测黑体的设定温度与相邻灰度差值的映射关系,获取所述待测黑体的设定温度与对应灰度值之间的关系曲线。
可选地,在预定环境温度下,根据反射温度确定待测黑体对应的校正灰度值之前,所述方法还包括:根据所述待测黑体的设定温度与灰度值之间的关系曲线获取所述反射温度对应的灰度值,其中,当所述反射温度的温度值对应于所述待测黑体的第一设定温度时,所述反射温度对应的灰度值为所述第一设定温度对应的灰度值。
可选地,在预定环境温度下,根据反射温度确定待测黑体对应的校正灰度值包括:通过第一公式确定所述待测黑体在所述预定环境温度下的校正灰度值,所述第一公式如下:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大华技术股份有限公司,未经浙江大华技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911072365.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。