[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板

说明书

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，该基板包括显示区和GOA区，阵列基板位于AA区内的有源层的厚度，大于位于GOA区内的有源层的厚度；通过将GOA区和显示区内阵列基板的有源层设置成不同的厚度，GOA区内的有源层的厚度设置的较小，有助于实现GOA区域内薄膜晶体管快速响应的需求；显示区内有源层的厚度设置的较大，可以缓解光子在有源层内的扩散，从而达到减小显示区内薄膜晶体管负偏的影响；这样对GOA区和显示区内有源层的不同厚度设置，同时满足了显示区和GOA区域内，阵列基板的不同特征需求，提高了显示面板的质量。

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

GOA(Gate Driver On Array，栅极驱动集成在阵列基板上)技术由于具备可以节省栅极驱动集成电路、实现窄边框等优势，目前已经广泛的运用于面板设计当中。

在面板的显示区内，由于受到开口率的限制，黑矩阵的宽度设定在一定的范围内，无法增大，这样就导致了射入到黑矩阵边缘的光线会通过漫反射、折射等原因照射到阵列基板上；显示区内阵列基板的栅极端长时间受到负向电压，阵列基板经常受到光照，会加速薄膜晶体管的负偏。在GOA区域内，由于黑矩阵大面积遮挡，存在漏光的可能性很小；而GOA区的阵列基板为了达到快速响应的目的，通常对其有源区的厚度进行细部追究。所以，如何减小显示区内阵列基板的负偏，提高GOA区内阵列基板的响应速度，从而提高显示质量，显得尤为重要。

因此，现有显示面板存在显示区内阵列基板的负偏需要避免，GOA区内阵列基板的响应速度需要提高。

发明内容

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以缓解现有显示面板存在显示区内阵列基板的负偏需要避免，GOA区内阵列基板的响应速度需要提高的问题。

为解决以上问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种阵列基板，其包括显示区和GOA区，所述阵列基板包括：

衬底；

有源层，形成于所述衬底上，图案化形成有源区；

源漏极层，形成于所述有源层上；

其中，位于所述显示区内的有源区的厚度，大于位于所述GOA区内的有源区的厚度。

在本发明提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括在所述衬底上层叠设置的栅极层、栅极绝缘层、刻蚀阻挡层、钝化层、以及平坦化层，所述有源层位于所述栅极绝缘层和所述刻蚀阻挡层之间，所述源漏极层位于所述刻蚀阻挡层和所述钝化层之间。

在本发明提供的阵列基板中，所述阵列基板在显示区内的厚度，和在GOA区内的厚度相同。

在本发明提供的阵列基板中，位于所述显示区内的钝化层的厚度，小于位于所述GOA区内的钝化层的厚度。

在本发明提供的阵列基板中，位于所述显示区内的平坦化层的厚度，小于位于所述GOA区内的平坦化层的厚度。

在本发明提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括在所述衬底上层叠设置的栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层、钝化层、以及平坦化层，所述有源层位于所述衬底和所述栅极绝缘层之间，所述源漏极层位于所述层间绝缘层和所述钝化层之间。

在本发明提供的阵列基板中，所述阵列基板在显示区内的厚度，和在GOA区内的厚度相同。

在本发明提供的阵列基板中，位于所述显示区内的层间绝缘层的厚度，小于位于所述GOA区内的层间绝缘层的厚度。

在本发明提供的阵列基板中，位于所述显示区内的钝化层的厚度，小于位于所述GOA区内的钝化层的厚度。