[发明专利]一种硅材清洗处理系统及方法

说明书

本发明提供一种硅材清洗处理系统及方法，配置了清洗机器人，清洗槽，冲洗槽以及纯水槽。清洗机器人能够实现将待清洗的硅材料进行运输，在清洗槽，冲洗槽以及纯水槽实现清洗处理。清洗槽起到了清洗的作用，冲洗槽对清洗后的硅材料进行冲洗，纯水槽进行进一步的处理，保证了清洗的质量，避免污染后续清洗工序。还能够实现鼓泡，加热等方式，还可以实现自动匹配清洗液，并进行添加。实现了工艺全自动化，智能控制，可以量产，提高生产效率；清洗效果好，能较好的把硅表面杂质清洗掉，实现硅的循环再利用；节省生产成本，节省劳动力。

技术领域

本发明涉及硅处理技术领域，尤其涉及一种硅材清洗处理系统及方法。

背景技术

硅是一种半导体材料。硅主要用来制作高纯半导体、耐高温材料、光导纤维通信材料、有机硅化合物、合金等，被广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、能源、化工、纺织、食品、轻工、医疗、农业等行业，可以看出硅在很多领域都有被应用。

而在半导体器件中，对硅片的使用较为严格，硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，会导致各种缺陷。

硅在使用长时间后，表面易被污染，从而硅原料无法再被使用，现今领域中对于废弃硅材料处理技术不成熟，很难实现自动化清洗量产。

而常用硅处理的方式是将硅以硅碎片形式的进行清洗处理，处理过程是

为了能够实现对硅材料的反复利用，需要对使用后的硅材料进行处理，将硅材料浸泡在容器加入相应的介质进行处理，这种处理过程不彻底，容易导致硅材料里面掺杂杂质，在后续的融合工序再加工的过程中，容易造成硅材料纯度不高，影响后期的使用。

发明内容

为了克服上述现有技术中的不足，本发明提供一种硅材清洗处理系统，包括：清洗机器人，清洗机器人的四周分别设有至少两个清洗槽，至少两个冲洗槽，至少四个纯水槽以及至少三个补液罐；

清洗槽的侧壁上连接有清洗进液补液管，清洗槽通过进液补液管连接清洗补液罐；清洗槽的底部连接有清洗排液管，清洗排液管上连接有排污阀；

冲洗槽的侧壁上连接有冲洗进液补液管，冲洗槽通过冲洗进液补液管连接冲洗补液罐；冲洗槽的底部连接有冲洗排液管，冲洗排液管上连接有排污阀；

纯水槽的侧壁上连接有纯水进液补液管，纯水槽通过纯水进液补液管连接纯水补液罐；纯水槽的底部连接有纯水排液管，冲洗纯水排液管上连接有排污阀；

清洗机器人设有旋转底座，旋转底座上连接有机械手臂，机械手臂的端部连接有抓取机械手；抓取机械手用于抓取装有硅碎片的硅碎片筛网箱体，并将装有硅碎片的筛网箱体按照预设的清洗程序放入清洗槽，冲洗槽以及纯水槽进行清洗处理。

优选地，还包括：登高平台；登高平台靠近清洗槽设置；

清洗机器人的四周还设有安放待清洗硅碎片筛网箱体的上料平台和安放清洗后硅碎片筛网箱体的下料平台；

系统四周罩设有外罩，外罩上设有供管道进出的通孔，上料平台连通通道，下料平台连通通道，观察窗和进出门。

优选地，清洗槽侧壁上还设有溢流口，清洗进液补液管上设有清洗流量计，清洗控制阀和清洗液驱动泵；

冲洗槽侧壁上还设有溢流口，冲洗进液补液管上设有冲洗流量计，冲洗控制阀和冲洗液驱动泵；

纯水槽侧壁上还设有溢流口，纯水进液补液管上设有纯水流量计，纯水控制阀和纯水液驱动泵。

优选地，每个补液罐内部设有搅拌桨；补液罐的侧壁上设有进液口和出液口；

清洗槽的内部，冲洗槽的内部，纯水槽的内部以及补液罐的内部分别设有液位传感器，加热器和温度传感器；