[发明专利]一种对位方法及应用其的直写光刻设备

说明书

本发明公开了一种对位方法和直写光刻设备，控制系统根据基板平台上放置基板的对位点分布，设定启动对位相机的预设位置；基板平台运动至预设位置时，启动对位相机抓取对位点图像；根据对位相机抓取的图像，完成对位，在对位过程中，所述基板平台始终保持移动状态。减少了对位过程平台状态的频繁变化，对位过程平台只需完成一次或数次点到点运动，CCD相机在点到点运动的高速运行阶段基于位置事件完成对位点抓拍，有效地缩短了对位时间，提高了曝光机的产能。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，具体是一种提高曝光产能的设备对位方法，属于直写式光刻快速曝光技术领域。

背景技术

光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器（例如液晶显示器）、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。直写光刻技术以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。曝光产能是客户需求的一项重要指标，那么提高直写曝光机曝光产能则变得至关重要。

对位是将图形精确转移到PCB上的一个重要步骤，降低对位时间，可以降低图形转移时间，提高产能。目前市场上的光刻直写设备，采用的对位方法的主要特点在于，CCD进行某一对位点的抓取，平台均需要沿着某一特定方向，各对位点的对位均需经历静止、加速、匀速、减速、静止过程，整个过程平台运动状态变化频繁，时间消耗较多。本发明基于上述问题，提出一种新的对位方法，减少对位过程中平台的运动状态的变化，从而减少对位时间。

发明内容

本发明的目的在于一种提高曝光产能的直写光刻设备对位方法，减少对位过程中平台运动状态的频繁改变，使得平台在沿着某一个方向较高匀速运行状态下完成对所有对位点的抓取，有效地缩短了对位时间，从而提高直写曝光机的产能。

为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案为：一种直写光刻设备对位方法，控制系统根据基板平台上放置基板的对位点分布，设定启动对位相机的预设位置；基板平台运动至预设位置时，启动对位相机抓取对位点图像；根据对位相机抓取的图像，完成对位，在对位过程中，所述基板平台始终保持移动状态。

进一步的，所述基板平台在对位操作中依次经过加速、匀速、减速过程，所述预设位置均处于所述基板平台匀速运动的过程中。

进一步的，所述控制系统根据对位相机抓取的图像时的位置和预设位置之间的误差校正数据。

进一步的，所述基板平台的最大匀速运动的速度，由运动平台加速能力、预留加速距离以及对位相机的视场决定。

进一步的，所述基板平台的最大的加速距离为基板平台从静止运行至第一个所述预设位置的距离。

进一步的，所述预设位置根据对位点处于对位相机视场内时，所述基板平台的所处位置信息设定。

进一步的，所述控制系统接收所述基板平台到达预设位置信号，向所述对位相机发出开启信号，同时检测所述基板平台位置信号。

一种直写光刻设备，其包括运动机构，置于运动机构上的基板平台，进行对位操作的对位机构，其还包括控制系统，所述控制系统控制所述运动机构和所述对位机构，其控制所述运动机构匀速运动，并在检测到所述运动机构运行至预先设定的位置时，控制所述对位机构抓取相应的图片。

进一步的，所述控制系统向所述对位机构发出开启信号的同时，检测基板平台的位置信息。

进一步的，所述控制系统对所述对位机构抓取的图片根据对位机构的延迟时间校正数据。

本发明，能够在确保精度的要求下，减少对位过程中平台运动状态的频繁改变，使得对位过程中，平台主要保持较高的速度匀速运动，有效地缩减了对位时间，提升了客户生产的产能。

附图说明