[发明专利]一种CVD金刚石散射片

说明书

本发明公开了一种CVD金刚石散热片装置，包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置固接设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽设于金刚石散射片外框上，所述水冷循环管道一端接于水冷下水槽侧面，另一端接于水冷上水槽侧面，所述散热铜管设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成。本发明属于光学与光学工程领域，具体是指一种有效提高散热片阈值的CVD金刚石散热片装置。

技术领域

本发明属于光学与光学工程技术领域，具体是指一种CVD金刚石散射片装置。

背景技术

目前散射片主要用于衍射和折射的应用中，但是在使用过程中，射入散射片中的激光一部分被散射片表面散射，另一部分在另一表面发生二次散射，二次散射激光的能量会导致散射片温度升高，从而导致散射片耐受激光功率阈值低。

申请号为CN201880005732.6的专利申请公开了一种光散射片，光散射片(光散射体)由在树脂中分散有光散射粒子的树脂成形体形成。光散射粒子为稀土类磷酸盐的粒子。该光散射片在使用过程中，仍然没有解决因为温度上升而导致散射片耐受激光红功率不搞的问题。

发明内容

为了解决上述难题，本发明提供了一种可以快速散热并且提高激光阈值的CVD金刚石散射片装置。

为了实现上述功能，本发明采取的技术方案如下：一种CVD金刚石散射片装置，包括金刚石散射片、水循环驱动装置、散射片水冷装置和金刚石散射片外框，所述金刚石散射片设于金刚石散射片外框内，所述散射片水冷装置设于金刚石散射片外框外表面，所述水循环驱动装置设于散射片水冷装置内，所述金刚石散射片外框包括水冷上水槽、水冷下水槽、水冷循环管道和散热铜管，所述水冷下水槽和水冷上水槽固接设于金刚石散射片外框两相对端的外表面上，所述水冷循环管道一端设于水冷下水槽侧面，所述水冷循环管道另一端设于水冷上水槽侧面，所述散热铜管均匀设于设于水冷下水槽与水冷上水槽的侧面，用于散发热量，控制水槽的温度,所述金刚石散射片由CVD金刚石单晶制成，直径为1英寸，厚度为5mm。

进一步地，所述水循环驱动装置包括水冷驱动电机、水冷驱动电机保护罩和圆形螺旋桨，所述水冷驱动电机保护罩设于水冷下水槽内侧壁上，所述水冷驱动电机设于水冷驱动电机保护罩内，用于保证电机不直接接触水，所述圆形螺旋桨设于水冷驱动电机的转动轴上。

进一步地，所述金刚石片散射片外框为中空圆柱体结构设置。

进一步地，所述水冷上水槽和水冷下水槽为中空结构。

进一步地，所述水冷循环管道为中空弧形圆柱体结构。

进一步地，所述金刚石散射片内设有水冷镜面通道。

进一步地，所述金刚石散射片上底面和下底面经过机械粗磨表面粗糙度为100um。

本发明采取上述结构取得有益效果如下：本发明一种CVD金刚石散射片装置，散射片由CVD金刚石制成，CVD金刚石热导率高，热量可以快速在散射片内传输，通过在散射片内设置水冷镜面通路，通过水冷为主的方法控制散热片温度，并且在水冷上水槽和水冷下水槽的侧面设置散热铜管，以便于水冷装置内的热量通过散热铜管散发到空气中，增强水冷装置的效果散发到从而提高激光功率阈值。

附图说明

图1为本发明一种CVD金刚石散射片装置的整体结构图；

图2为本发明一种CVD金刚石散射片装置左视图。