[发明专利]一种金属的表面抛光处理工艺

权利要求书

1.一种金属的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：

第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：70%～90%的三氯化铁和5～30%的具有腐蚀作用的酸性化合物溶液，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁和酸性化合物溶液按照上述重量比加入适量的水混合均匀，制得抛光处理剂；

第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机，根据需要加入适量的水后，再放入待抛光的金属；

第三步，金属的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对金属的表面进行抛光。

2.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：70%的三氯化铁和30%的酸性化合物溶液。

3.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：75%的三氯化铁 25%的酸性化合物溶液。

4.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：85%的三氯化铁 和15%的酸性化合物溶液。

5.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述抛光处理剂的组成成份重量比为：95%的三氯化铁和5%的酸性化合物溶液。

6.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述酸性化合物溶液选自盐酸溶液、硫酸溶液、硝酸溶液或草酸溶液中的一种。

7.根据权利要求1所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨机为带振动筒的振动抛光机、涡流研磨机、槽式振动机、滚筒抛光机、磁力抛光机或高速离心机。

8.根据权利要求1至6任意一项所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨辅料为树脂胶粒、高铝瓷、高频瓷、陶瓷、氧化锆或棕刚玉。

9.根据权利要求1至6任意一项所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：所述研磨辅料为核桃粒。

10.根据权利要求7所述的一种金属的表面抛光处理工艺，其特征在于：在第二步，研磨机采用磁力抛光机，抛光处理剂加入水后再加入到磁力抛光机内，抛光处理剂与水的比例为重量比为：30%的抛光处理剂和70%的水。