[发明专利]一种合成5-(N-BOC-哌嗪-1-基)吡啶-2-胺的方法在审
申请号: | 201910988758.3 | 申请日: | 2019-10-17 |
公开(公告)号: | CN110551063A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 马文强;任传栋;杨波;林泉生 | 申请(专利权)人: | 山东邹平大展新材料有限公司 |
主分类号: | C07D213/74 | 分类号: | C07D213/74 |
代理公司: | 37205 济南舜源专利事务所有限公司 | 代理人: | 于晓晓 |
地址: | 256220 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 无机盐 有效地 偶氮 合成化合物 后续处理 化学合成 还原过程 取代反应 碳酸氢钠 硝基还原 氯化铵 收率 去除 精制 还原 合成 保证 | ||
本发明涉及一种合成5‑(N‑BOC‑哌嗪‑1‑基)吡啶‑2‑胺的方法,属于化学合成的技术领域。本发明的技术方案为:先将化合物I和化合物II进行取代反应合成化合物III,再将化合物III进行还原,得到产物IV;在还原过程中加入无机盐,可以有效地抑制偶氮杂质V的生成。本发明的有益效果为:本发明在硝基还原的过程中,通过添加氯化铵、碳酸氢钠等无机盐进行反应,可以有效地抑制偶氮杂质的生成,从而使得后续处理阶段无需进行精制步骤去除该杂质。保证了产品的质量的同时,也保证了产品的收率。
技术领域
本发明属于化学合成的技术领域,具体涉及一种合成5-(N-BOC-哌嗪-1-基)吡啶-2-胺的方法。
背景技术
硝基还原为胺基是化工生产中常用的生产胺基化合物的手段,一般会采用Fe、Zn/HCl法,Pd/H2法,Na2S法等。在还原过程中会同时产生偶氮化合物的杂质,使得产品质量下降;并且该杂质难以除去,一般需要经过多次精制方可达到较高的纯度,这就导致了生产成的本提高。
发明内容
针对现有技术中硝基还原过程中易产生难以去除的偶氮化合物,现提供一种合成
5-(N-BOC-哌嗪-1-基)吡啶-2-胺的方法,以解决上述问题。本发明在还原过程中加入无机盐,可以有效地抑制偶氮化合物的生成。
本发明的合成路线图为:
本发明的技术方案为:先将化合物I和化合物II进行取代反应合成化合物III,再将化合物III进行还原,得到产物IV;在还原过程中加入无机盐,可以有效地抑制偶氮杂质V的生成。
本发明的具体合成步骤如下:
(1)化合物III的合成
以化合物II计,取化合物II,加入2.1~2.3g/g的二甲基亚砜,搅拌溶清后,依次加入0.21~0.23g/g的氯化锂、1.06~1.15g/g的化合物I、0.70~0.80g/g的三乙胺,升温至80~85℃,保温搅拌反应12h,HPLC检测反应完全后,降温至15~25℃搅拌析晶1~2h。过滤,湿品50~55℃干燥,得化合物III。
(2)产品IV的合成
以化合物III计,向反应器中加入化合物III,再加入3.0-3.1g/g的纯化水和3.55-3.6g/g的甲醇,搅拌均匀后加入1.95~2.03g/g的九水硫化钠和1.25~2.0eq的无机盐,升温至70~80℃,保温反应2h。HPLC检测反应完全后,降温至20~30℃。向反应液中加入6.5~7.0g/g的二氯甲烷,搅拌萃取,静置分层,取有机相。有机相用纯化水洗涤两次,每次纯化水用量为3g/g,洗涤后的有机相用无水硫酸钠干燥。将干燥后的有机相过滤,滤液在40~50℃下减压蒸馏,蒸至反应液剩余体积约为2ml/g时,加入3.4~4g/g的正庚烷,继续40~50℃减压蒸馏,蒸至反应液剩余体积约为2ml/g时,降温至5~10℃,搅拌析晶1~2h,过滤,湿品50~55℃烘干,得产物IV。
优选的,所述步骤(2)中无机盐为氯化铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾和碳酸氢铵的一种或多种。
优选的,所述步骤(2)中无机盐的投料比以化合物III计为1.8eq。
优选的,所述步骤(1)中化合物I的投料量以化合物II计为1.1g/g。
优选的,所述步骤(1)中氯化锂的投料量以化合物II计为0.21g/g。
优选的,所述步骤(1)中三乙胺的投料量以化合物II计为0.75g/g。
优选的,所述步骤(2)中九水硫化钠的投料量以化合物II计为2.00g/g。
本发明的有益效果为:
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