[发明专利]一种多层镂空软板开盖工艺在审
| 申请号: | 201910978281.0 | 申请日: | 2019-10-15 |
| 公开(公告)号: | CN110557894A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
| 发明(设计)人: | 文继昌;文永兴;杨书军 | 申请(专利权)人: | 深圳市华旭达精密电路科技有限公司 |
| 主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/18 |
| 代理公司: | 44251 东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘汉民 |
| 地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双面板 覆盖膜 覆铜板 纯胶 开盖 导通孔 电镀层 废料区 金手指 开窗 压屏 蚀刻 手指图形 镀铜 软板 围合 裸露 损伤 拆除 贯穿 | ||
1.一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1:提供双面板,双面板的表面蚀刻有双层线路图形,所述双层线路图形包含有金手指图形、压屏手指图形中的任意的一种或两种都有;
S2:在双面板的表面贴有双面板覆盖膜,双面板覆盖膜上设有与金手指或压屏手指对应的覆盖膜开窗;
S3:双面板覆盖膜上依序贴有纯胶膜、覆铜板,覆铜板,双层区开窗的纯胶膜及内层双面板在纯胶膜的开窗区形成密封空腔;
S4:通过二钻方式贯穿双面板覆盖膜、纯胶膜、覆铜板、双面板形成FPC导通孔,FPC导通孔使得各层线路相连,确保FPC上的各个功能正常使用;
S5:在覆铜板上镀铜形成电镀层;
S6:在覆铜板和电镀层上蚀刻有与纯胶膜开窗对应的开盖线,所述开盖线相互围合形成废料区;
S7:拆除废料区使双面板上金手指图形或压屏手指图形的线路裸露在外。
2.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,在步骤S1中,双面板设有定位孔靶标,并对定位孔靶标冲压形成定位孔。
3.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,所述覆铜板由PI和铜箔组成。
4.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,在步骤S3后,还需对双面板覆盖膜、纯胶膜、覆铜板、双面板压制固化,使各层之间的连接更紧密。
5.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,S5步骤中,在对FPC导通孔电镀前还需进行黑孔处理,用于电镀铜的进行。
6.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于,S6步骤中,所述开盖线的宽度为0.1-0.5MM之间。
7.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于:S7步骤中,拆除废料区的方式为通过激光切割,根据开盖线将废料部切除。
8.根据权利要求1所述的一种多层镂空软板开盖工艺,其特征在于:S7步骤中,拆除废料区的方式为手工揭盖,对废料区施压使废料部撕裂。
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