[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910977736.7 申请日: 2019-10-15
公开(公告)号: CN111223858A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 児岛正和;南允邰 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H01L27/085 分类号: H01L27/085;H01L29/417;H03F3/195
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 钱海洋;刘雪珂
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【说明书】:

本发明提供一种半导体装置,所述半导体装置包括基板、设置在所述基板的表面上的第一FET部和第二FET部。所述第一FET部包括彼此间隔开的第一栅电极区域和第一源电极区域。所述第二FET部以堆叠结构连接到所述第一FET部,所述第二FET部包括彼此间隔开的第二栅电极区域和第二漏电极区域。所述第一FET部和所述第二FET部中的每个包括设置在所述基板的所述表面上并且彼此间隔开的第一共电极和第二共电极。所述第一共电极和所述第二共电极中的每个被构造为由所述第一FET部的第一漏电极和所述第二FET部的第二源电极一体形成的单根导体布线。

本申请要求于2018年11月27日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0148944号韩国专利申请的优先权的权益,出于所有目的,该韩国专利申请的全部公开内容通过引用被包含于此。

技术领域

以下描述涉及一种具有堆叠的场效应晶体管(FET)的半导体装置。

背景技术

使用亚毫米波的安装在移动电话上的共源共栅型高频功率放大器通常具有高输出和高性能。

共源共栅型结构可用于增大在射频(RF)前端(FE)集成电路(IC)中的功率放大器(PA)的输出,在射频前端集成电路中PA具有28GHz的频带并包括低噪声放大器(LNA)和RF开关。

通常,功率放大器电路可包括以共源共栅方式配置的多个场效应晶体管(FET)。在共源共栅结构中,以共源共栅方式配置的多个FET彼此独立地形成,相应FET的漏电极和源电极中的一些可通过单独的导体图案彼此连接。

具有如上所述的堆叠的FET的典型的功率放大设备通常在高频(例如,28GHz)下具有劣化的性能(增益和效率)。

发明内容

提供本发明内容以简化的形式介绍所选择的构思,并在以下具体实施方式中进一步描述所述构思。本发明内容既不意在明确所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不意在帮助确定所要求保护的主题的范围。

在一个总体方面,一种半导体装置包括基板、第一场效应晶体管(FET)部和第二FET部。设置在所述基板的表面上的所述第一FET部包括设置在所述基板的所述表面上并且彼此间隔开的第一栅电极区域和第一源电极区域。设置在所述基板的所述表面上并且以堆叠结构连接到所述第一FET部的所述第二FET部包括设置在所述基板的所述表面上并且彼此间隔开的第二栅电极区域和第二漏电极区域。所述第一FET部和所述第二FET部中的每个包括设置在所述基板的所述表面上并且彼此间隔开的第一共电极和第二共电极。所述第一共电极和所述第二共电极中的每个被构造为通过所述第一FET部的第一漏电极和所述第二FET部的第二源电极一体形成的单根导体布线。

所述第一共电极与所述第二共电极可成直线地且平行地设置。

所述第一栅电极区域可包括:彼此间隔开的第一栅电极指,设置在形成在所述基板的所述表面上的第一导体层上;以及第一栅电极垫,设置在所述第一导体层上并且连接到所述第一栅电极指。

所述第一源电极区域可包括:彼此间隔开的一对第一源电极垫,设置在所述第一导体层上;以及第一源电极指,设置在所述第一导体层上,设置在所述一对第一源电极垫之间,并且与所述一对第一源电极垫间隔开。

所述第二栅电极区域可包括:彼此间隔开的第二栅电极指,设置在所述第一导体层上;以及第二栅电极总线,设置在所述第一导体层上并且连接到所述第二栅电极指。

所述第二漏电极区域可包括:第二漏电极指,设置在所述第一导体层上并且通过所述第一共电极和所述第二共电极彼此间隔开;以及第二漏电极垫,设置在所述第一导体层上并且与所述第二漏电极指间隔开。

所述第二栅电极总线可设置在所述第一共电极和所述第二共电极之后并且设置在所述第二漏电极垫之前,并且所述第二栅电极总线与所述第一共电极、所述第二共电极和所述第二漏电极垫中的每个间隔开。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电机株式会社,未经三星电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910977736.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top