[发明专利]一种改良式抛光轮及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910950496.1 申请日: 2019-10-08
公开(公告)号: CN111251202A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 蒋玉红 申请(专利权)人: 菲迪斯智能装备(广东)有限公司
主分类号: B24D13/02 分类号: B24D13/02;B24D18/00;B24B41/04
代理公司: 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) 44429 代理人: 何树良
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 改良 抛光轮 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种改良式抛光轮,其特征在于:包括主轴体及烧结在主轴体外侧的抛光层,抛光层用于抵触外界待抛光的物件,转动的主轴体带动抛光层转动,转动的抛光层实现对物件的抛光。

2.根据权利要求1所述的改良式抛光轮,其特征在于:主轴体采用不锈钢制成。

3.根据权利要求1所述的改良式抛光轮,其特征在于:主轴体包括中心部、分别设置于中心部两端的两个过渡部、分别设于两个过渡部彼此远离一端的两个定位部、设于一个定位部的配合部,过渡部的外径大于定位部的外径,定位部用于承载外界的滚动轴承,过渡部靠近定位部一端的端面用于挡止滚动轴承,配合部设有键槽,键槽用于容设与外界传动轮配合的健体。

4.根据权利要求1所述的改良式抛光轮,其特征在于:抛光层的横截面呈环形,抛光层套设在主轴体的外侧。

5.根据权利要求4所述的改良式抛光轮,其特征在于:主轴体设有凹坑,抛光层设有突伸入凹坑内的固定部。

6.根据权利要求5所述的改良式抛光轮,其特征在于:凹坑的数量为多个,多个凹坑围绕主轴体的中心轴线设置。

7.根据权利要求5所述的改良式抛光轮,其特征在于:凹坑沿主轴体的长度方向延伸设置,凹坑自主轴体的外表面凹设而成,凹坑远离主轴体的中心轴线一端的宽度小于凹坑靠近主轴体的中心轴线一端的宽度。

8.根据权利要求1所述的改良式抛光轮,其特征在于:所述抛光层包括如下质量百分比的原料:碳化硅27-33%、白刚玉32-38%、碳纤维复合材料7-13%、高分子树脂材料22-28%。

9.根据权利要求1所述的改良式抛光轮,其特征在于:所述高分子树脂材料为双酚A型环氧树脂。

10.一种权利要求8-9任意一项所述的改良式抛光轮的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:

(1)按比例称取碳化硅、白刚玉、碳纤维复合材料、高分子树脂材料,混合后配成混合料;

 (2)将对混合料进行混匀后,加水润湿放置90-150min,得到润湿混料;

 (3)将润湿混料放入搅拌机均匀搅拌,并补充加水,润湿混料和水的质量比为2.5-3.5:1;

(4)将主轴体放入磨具槽内,将混合料倒入磨具中;将固定好的磨具放置于滚动的烧结台;

 (5)对附着于主轴体表面的混合料进行点火操作和抽风烧结,得到抛光轮初品。

(6)通过环冷机对抛光轮初品进行冷却处理。

(7)将抛光轮初品冷却23-25h后进行表面切削处理

(8)将经过切削处理的抛光轮初品置于滚动研磨机,研磨到规定的尺寸规格后,制得抛光轮。

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