[发明专利]一种钕铁硼磁体表面防腐处理方法

权利要求书

1.一种钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）预处理：将待处理的钕铁硼磁体与磨料置入光饰设备中进行干磨，控制光饰设备的装载量不高于其最大装载量的90%，干磨时间为20-120min；

2）防腐处理：对步骤1）预处理后的钕铁硼磁体进行磷化、电镀、物理气相沉积、电泳或喷涂任一项或多项防腐处理，

步骤1）所述钕铁硼用磨料包括以下组分：碳化硅、碳酸钙、树脂、碳黑、氧化铝，所述碳化硅粒度为100-500μm；所述树脂为聚乙烯或聚酰胺；

步骤2）中防腐处理为：

磷化：步骤1）所述预处理-直接进行磷化，

电镀：步骤1）所述预处理-水洗-活化-水洗-电镀，不经脱脂、酸洗直接进行电镀处理；

物理气相沉积：步骤1）所述预处理-不经磷化直接进行物理气相沉积，

电泳：步骤1）所述预处理-水洗-电泳，不经磷化直接进行电泳处理；

喷涂：步骤1）所述预处理-不经磷化直接进行喷涂处理。

2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤1）预处理后钕铁硼磁体的粗糙度为0.2-2.0μm。

3.根据权利要求2所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤1）预处理后钕铁硼磁体的粗糙度为0.8-1.5μm。

4.根据权利要求3所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，所述钕铁硼用磨料包括以下重量份数的组分：碳化硅16.0-25.0份、碳酸钙10.5-17.5份、树脂50.0-60.0份、碳黑4.0-6.5份、氧化铝4.0-6.5份。

5.根据权利要求3所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤1）所述钕铁硼用磨料的密度为1.1-2.5g/cm³，直径为1-15mm，为球形或者圆柱形。

6.根据权利要求5所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤1）所述钕铁硼用磨料的密度为1.7-2.0g/cm³，直径为4-8mm。

7.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤2）中，待处理的钕铁硼磁体与磨料的重量比为1:(1-6)。

8.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面防腐处理方法，其特征在于，步骤1）中，所述光饰设备为振动光饰机或涡流式流动光饰机，干磨频率为10-60Hz。