[发明专利]一种半导体二极管制造加工用酸洗方法

说明书

本发明涉及一种半导体二极管制造加工用酸洗方法，主要包括以下步骤：溶液配制、送料、酸洗、出料清洗与烘干，上述步骤中使用到的酸洗槽设备包括酸洗槽、移动机构、分隔板与辅助机构，酸洗槽内从左往右均匀安装有移动机构，移动机构数量为三，相邻移动机构之间布置有分隔板，分隔板安装在酸洗槽内壁上，且酸洗槽上端安装有辅助机构。本发明使用三种酸洗溶液对二极管表面进行清洁，且在酸洗过程中可通过移动机构带动二极管进行上下运动，从而改变二极管位置，扩大二极管与酸洗溶液的接触面积，由于本发明采用浸没方式对二极管进行清洗，在清洗过程中，酸洗溶液不会四处飞溅，相比于喷淋法工作环境及清洗质量均得到了提升。

技术领域

本发明涉及半导体二极管制造技术领域，具体的说是一种半导体二极管制造加工用酸洗方法。

背景技术

二极管在制造过程中需要经过酸洗，即利用各种酸和水，对芯片P-N结周围边缘表面进行化学腐蚀，以改善机械损伤，祛除表面吸附的杂质，降低表面电场，使P-N结的击穿首先从体内发生，以获得于理论值接近的反向击穿电压和极小的表面漏电流。

酸洗效果的好坏对二极管的成品质量起到重要的影响作用，而在现有的二极管酸洗过程中存在以下问题：

(1)酸洗设备包括酸洗槽与酸洗板，酸洗时将二极管放置在酸洗板上，通过喷淋法对二极管进行酸洗，由于二极管在酸洗过程中位置基本固定，因此二极管下端集二极管相互重叠部分均难以与酸洗溶液充分接触，导致酸洗均匀度差；

(2)酸洗时常常会使用到多种酸洗溶液，在采用喷淋法进行酸洗时，酸洗溶液因与酸洗板及二极管发生碰撞而四处飞溅，导致不同酸洗溶液相互混杂，影响了酸洗溶液的有效浓度，使得清洁效果降低。

为了解决上述问题，本发明提供了一种半导体二极管制造加工用酸洗方法。

发明内容

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案来实现：一种半导体二极管制造加工用酸洗方法，主要包括以下步骤：

S1溶液配制：分别配制体积比为9：9：12：4的HNO3、HF、CH3COOH、H2SO4一次酸洗液、体积比为1:0.8:3:0.2的H3PO4、H2O2、H2O、CH3COOH二次酸洗液以及成分比为250g：1.25L：12.5L的CrO3、H2SO4、H2O三次酸洗液，以备之后进行酸洗工作；

S2送料：将待酸洗的二极管分批次均匀放入酸洗设备内，并避免送料速度过快，以免二极管之间相互碰撞造成损伤；

S3酸洗:使用酸洗设备对二极管进行酸洗，以改善二极管机械损伤，去除表面吸附的杂质；

S4出料清洗：将酸洗后的二极管从酸洗设备内取出，并通过清水对二极管进行冲洗，去除二极管表面残留的酸洗溶液；

S5烘干:使用热风式烘干机对二极管进行烘干处理；

上述S1-S5中使用到的酸洗槽设备包括酸洗槽、移动机构、分隔板与辅助机构，酸洗槽内从左往右均匀安装有移动机构，移动机构数量为三，相邻移动机构之间布置有分隔板，分隔板安装在酸洗槽内壁上，且酸洗槽上端安装有辅助机构，酸洗槽左侧壁上开设有进料口，酸洗槽右侧壁上开设有出料口，酸洗槽下端开设有下水口；

所述酸洗槽左右内壁与分隔板作用内壁上均从前往后均匀开设有移动槽，移动槽内从上往下开设有伸缩槽，通过分隔板可将酸洗槽内部空间分为三等份，以便在分隔出的空间内分别倒入不同的酸洗溶液，且分隔板顶端高度小于酸洗槽顶端高度，以便使二极管穿过分隔板顶端与顶板下端之间的空隙，从而移动至位于不同酸洗溶液内的移动机构上。