[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板包括基板以及形成于所述基板之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开；该显示基板能够解决亚像素区漏光的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode，简称：OLED)相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，应用范围越来越广泛，被公认为最有发展潜力的显示装置。

目前OLED技术已逐渐成熟，慢慢走入市场，尤其是小尺寸OLED面板。大尺寸OLED面板由于尺寸较大，掩膜工艺产生的阴影效应比较严重。市场上一般采用开放式掩膜工艺(Open Mask)，将白光有机发光二极管(WOLED)与彩膜基板(CF)组合，制备形成大尺寸OLED面板。白光有机发光二极管技术多为B+Y两叠层或者B+Y+B三叠层结构，因此在点亮的情况下，电荷产生层(Charge Generation Layer)会向像素区四周迁移，产生电流导致像素区边缘的非像素区及相邻像素区串扰发光，导致像素区漏光，影响显示效果。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板能够解决亚像素区漏光的问题。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，包括基板衬底以及形成于所述基板衬底之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板衬底的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开。

可选地，所述开口位于所述像素界定层远离所述基板衬底一侧的表面。

可选地，所述有机功能层之上设置有覆盖所述开口的阴极层。

可选地，所述有机功能层包括电荷产生层。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。

本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，所述显示基板的制备方法包括：

在基板衬底之上形成像素界定层，使所述像素界定层之间形成亚像素区；

在所述像素界定层之上形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态之间转换；

在所述像素界定层和所述亚像素区之上形成有机功能层，使所述有机功能层覆盖所述形态转变层；

将呈固态的所述形态转变层进行液化，使所述形态转变层以及位于所述形态转变层之上的有机功能层从所述像素界定层之上剥离，形成将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开的开口。

可选地，所述形态转变层边缘与所述像素界定层表面边缘之间的距离为2um-5um。

可选地，所述形态转变层在紫外光的照射下呈液态，在可见光的照射下呈固态。

可选地，所述形态转变层的材料具有热力学稳定的顺式和亚稳定的反式。

可选地，所述形态转变层的材料包括氮化镓、氮化铝、季戊四醇四硝酸酯和三硝基甲苯中的至少一种。