[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板的制备方法包括：

在基板衬底之上形成像素界定层，使所述像素界定层之间形成亚像素区；

在所述像素界定层之上形成呈固态的形态转变层，其中，所述形态转变层在光照条件下能够在固态和液态或者气态之间转换；

在所述像素界定层和所述亚像素区之上形成有机功能层，使所述有机功能层覆盖所述形态转变层；

将呈固态的所述形态转变层进行液化或者气化，使所述形态转变层以及位于所述形态转变层之上的有机功能层从所述像素界定层之上剥离，形成将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开的开口。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形态转变层边缘与所述像素界定层表面边缘之间的距离为2um-5um。

3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形态转变层在紫外光的照射下呈液态，在可见光的照射下呈固态。

4.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形态转变层的材料具有热力学稳定的顺式和亚稳定的反式。

5.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形态转变层的材料包括氮化镓、氮化铝、季戊四醇四硝酸酯和三硝基甲苯中的至少一种。

6.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板由权利要求1至5任一所述的显示基板的制备方法制备而成，所述显示基板包括基板衬底以及形成于所述基板衬底之上的像素界定层，所述像素界定层之间形成有亚像素区，所述亚像素区和所述像素界定层之上设置有覆盖所述基板衬底的有机功能层，所述有机功能层中设有开口，所述开口将所述亚像素区之上的有机功能层与所述亚像素区之外区域的有机功能层隔开。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述开口位于所述像素界定层远离所述基板衬底一侧的表面。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述有机功能层之上设置有覆盖所述开口的阴极层。

9.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述有机功能层包括电荷产生层。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6-9任一所述的显示基板。