[发明专利]主觉式验光装置

权利要求书

1.一种主觉式验光装置，具备验光单元，该验光单元具有光学构件，配置在被检眼的眼前，使用所述光学构件来变更视标光束的光学特性，

所述主觉式验光装置将所述视标光束经由所述验光单元向所述被检眼投影，用于主觉性地测定所述被检眼的光学特性，

其中，

所述主觉式验光装置具备测定光学系统，该测定光学系统具有投光光学系统和受光光学系统，并他觉性地测定所述被检眼的光学特性，所述投光光学系统具有射出测定光的测定光源，将从所述测定光源射出的所述测定光经由所述验光单元向所述被检眼的眼底照射，所述受光光学系统经由所述验光单元而利用检测器接受由所述被检眼的眼底反射的所述测定光的反射光，

所述主觉式验光装置被设定为所述测定光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外。

2.根据权利要求1所述的主觉式验光装置，其中，

通过以所述测定光学系统中的所述投光光学系统的光轴和所述受光光学系统的光轴中的至少一方的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外的方式设定，从而所述主觉式验光装置被设定为所述测定光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外。

3.根据权利要求2所述的主觉式验光装置，其中，

通过以所述投光光学系统中的所述测定光源的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外的方式设定，从而所述主觉式验光装置被设定为所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外。

4.根据权利要求2或3所述的主觉式验光装置，其中，

所述投光光学系统具有将从所述测定光源射出的所述测定光经由所述验光单元向所述被检眼的眼底照射的物镜光学系统，将所述测定光经由所述验光单元向所述被检眼的眼底照射，

通过以所述投光光学系统中的所述物镜光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外的方式设定，从而所述主觉式验光装置被设定为所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外。

5.根据权利要求2所述的主觉式验光装置，其中，

通过使所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴倾斜，从而所述主觉式验光装置被设定为所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元中的所述光学构件的光轴成为轴外。

6.根据权利要求2所述的主觉式验光装置，其中，

通过使所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元的光轴偏心，从而所述主觉式验光装置被设定为所述投光光学系统的光轴相对于所述验光单元的光轴成为轴外。

7.根据权利要求1所述的主觉式验光装置，其中，

所述验光单元中的所述光学构件的光轴与为了所述被检眼观察被从正面方向投影的所述视标光束而设定的视轴为同轴，

所述测定光学系统被配置为所述测定光学系统的光轴相对于所述验光单元的所述光学构件的光轴成为轴外。

8.根据权利要求7所述的主觉式验光装置，其中，

所述光学构件包含保护罩和与所述保护罩不同的光学构件，

至少所述保护罩的光轴相对于所述视轴倾斜配置。

9.根据权利要求1所述的主觉式验光装置，其中，

所述主觉式验光装置具备：

投影光学系统，具有射出所述视标光束的视标呈现部，将从所述视标呈现部射出的所述视标光束朝向被检眼投影；及

壳体，收纳所述投影光学系统，

所述验光单元配置在所述壳体的外部，使用所述光学构件来变更由所述视标呈现部射出的所述视标光束的光学特性。

10.根据权利要求1所述的主觉式验光装置，其中，

所述主觉式验光装置具备修正部，该修正部基于由所述光学构件引起的所述视标光束的光学特性的变化量，来修正通过所述测定光学系统测定的所述被检眼的光学特性。