[发明专利]用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统在审
申请号: | 201910909136.7 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN112556992A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 徐殿维;吴丽萍;李金华;景晓丽;朱江兵;王洋;杨军超 | 申请(专利权)人: | 博众精工科技股份有限公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴;顾天乐 |
地址: | 215200 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 测量 视场 投影 模组 光学 参数 方法 系统 | ||
一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统,属于投影模组检测技术领域。该用于测量小视场投影模组光学参数的方法,包括以下步骤:S1,安装被测投影模组和大靶面相机,使大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;S2,被测投影模组投影标准画面至大靶面相机感光片上,得到测试图像;S3,在被测投影模组的工作距离下,调节被测投影模组的对焦距离,使测试图像清晰;S4,对已调节清晰的测试图像进行图像分析,得到被测投影模组的光学参数。本发明能够获取小视场投影模组的投影用于投影模组光学性能的分析,易于操作。
技术领域
本发明涉及的是一种光学检测领域的技术,具体是一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统。
背景技术
传统测量方法是控制投影模组投影图形到幕布上,并通过人工辨别及光学测量仪器等手段在幕布上测量得到均匀性、对比度、畸变、成像质量等反应投影模组性能的光学参数。但小视场投影模组的投影图像非常小,传统测量方法中使用的测量工具尺寸过大,无法用于小视场投影模组光学参数的测量。
为了解决现有技术存在的上述问题,本发明由此而来。
发明内容
本发明针对现有技术存在的上述不足,提出了一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统,能够获取小视场投影模组的投影,用于投影模组光学性能的分析,易于操作。
本发明涉及一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法,包括以下步骤:
S1,安装被测投影模组和大靶面相机,使大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;
S2,被测投影模组投影标准画面至大靶面相机感光片上,得到测试图像;
S3,在被测投影模组的工作距离下,调节被测投影模组的对焦距离,使测试图像清晰;
S4,对已调节清晰的测试图像进行图像分析,得到被测投影模组的光学参数。
所述图像分析的具体操作:根据要评价的光学参数,获取测试图像上相应像素的坐标和/或灰度值,据此进行计算;被测投影模组的光学参数包括畸变程度、倾斜程度、亮度均匀性、清晰度、对比度中的至少一项。
优选地,所述大靶面相机像元的边长不超过投影图像像素边长的1/3,且两者差距越大得到的投影模组光学参数越准确;进一步优选地,大靶面相机采用不小于2000万像素的高分辨率大靶面相机,感光宽度不小于被测投影模组的投影宽度。
在一些技术方案中,对测试图像进行防过度曝光处理;所述防过度曝光处理可以在测试图像获取过程中通过衰减器等系统实现,也可以在图像分析过程中通过软件修正实现。
在一些技术方案中,对大靶面相机进行遮光处理,避免环境光对大靶面相机感光片造成干扰。
本发明涉及一种基于上述方法用于测量小视场投影模组光学参数的系统,包括:安装台、被测投影模组、大靶面相机和光学参数分析模组;所述被测投影模组和大靶面相机固定在安装台上,被测投影模组和大靶面相机之间的间距可调节,大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;所述大靶面相机用于获取被测投影模组投影的标准画面,大靶面相机与光学参数分析模组电连接输出图像电信号。
优选地,所述被测投影模组和大靶面相机之间设有衰减器,衰减器通过滑轨滑块结构安装在安装台上;进一步优选地,所述衰减器为滤光片、偏振片中一种或两种组合,以减弱得到的测试图像的亮度。
优选地,所述大靶面相机在光入射端设有遮光筒,避免环境光对大靶面相机感光片造成干扰。
优选地,所述被测投影模组和大靶面相机中至少一个通过滑轨滑块结构安装在安装台上。
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