[发明专利]用于测量小视场投影模组光学参数的方法与系统在审

专利信息
申请号: 201910909136.7 申请日: 2019-09-25
公开(公告)号: CN112556992A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 徐殿维;吴丽萍;李金华;景晓丽;朱江兵;王洋;杨军超 申请(专利权)人: 博众精工科技股份有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 范晴;顾天乐
地址: 215200 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 测量 视场 投影 模组 光学 参数 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种用于测量小视场投影模组光学参数的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1,安装被测投影模组和大靶面相机,使大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;

S2,被测投影模组投影标准画面至大靶面相机感光片上,得到测试图像;

S3,在被测投影模组的工作距离下,调节被测投影模组的对焦距离,使测试图像清晰;

S4,对已调节清晰的测试图像进行图像分析,得到被测投影模组的光学参数。

2.根据权利要求1所述用于测量小视场投影模组光学参数的方法,其特征是,所述图像分析的具体操作:根据要评价的光学参数,获取测试图像上相应像素的坐标和/或灰度值,据此进行计算。

3.根据权利要求1所述用于测量小视场投影模组光学参数的方法,其特征是,所述大靶面相机像元的边长不超过投影图像像素边长的1/3。

4.根据权利要求1所述用于测量小视场投影模组光学参数的方法,其特征是,对测试图像进行防过度曝光处理。

5.根据权利要求1所述用于测量小视场投影模组光学参数的方法,其特征是,在投影过程中,对大靶面相机进行遮光处理。

6.一种基于权利要求1-5任一项所述方法用于测量小视场投影模组光学参数的系统,其特征在于,包括:大靶面相机、被测投影模组、安装台和光学参数分析模组;

所述被测投影模组和大靶面相机固定在安装台上,被测投影模组和大靶面相机之间的间距可调节,大靶面相机的感光平面与被测投影模组光轴垂直,且被测投影模组光心与大靶面相机中心始终对齐;

所述大靶面相机用于获取被测投影模组投影的标准画面,大靶面相机与光学参数分析模组电连接输出图像电信号。

7.根据权利要求6所述用于测量小视场投影模组光学参数的系统,其特征是,所述被测投影模组和大靶面相机之间设有衰减器,所述衰减器为滤光片、偏振片中一种或两种组合。

8.根据权利要求7所述用于测量小视场投影模组光学参数的系统,其特征是,所述大靶面相机在光入射端设有遮光筒。

9.根据权利要求6所述用于测量小视场投影模组光学参数的系统,其特征是,所述被测投影模组和大靶面相机中至少一个通过滑轨滑块结构安装在安装台上。

10.根据权利要求6所述用于测量小视场投影模组光学参数的系统,其特征是,所述光学参数分析模组采用上位机,通过软件实现被测投影模组光学参数的测量。

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