[发明专利]一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法

说明书

本发明提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。阵列基板设有显示区和屏下摄像头区，阵列基板包括从下至上依次层叠设置的基板、驱动电路层、平坦层、公共电极层、绝缘层和像素电极层。所述平坦层在位于所述屏下摄像头区设有凹槽。显示面板包括上述阵列基板。本发明通过在位于屏下摄像头区的平坦层上制作凹槽，使得显示面板在屏下摄像头区的液晶层在对应所述凹槽的位置厚度增大，从而液晶层的厚度由原来的三微米左右增加到五微米左右，增大了光线经过所述液晶层的光程，继而提高了光线的散射效果，进而增大了液晶层的雾度，解决了屏下摄像头区的雾度较低的技术问题，且提高了所述屏下摄像头区的对比度，增强了画面显示效果。

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。

背景技术

随着显示技术的革新和发展，占屏比这一概念越来越重要，为实现全面屏显示，摄像头在屏幕中占据的空间尤为重要。

屏下摄像头技术是指在不破坏屏幕完整性的前提下，可以实现全面屏显示。屏幕显示区分为两个部分：常规显示区以及屏下摄像头区。在摄像头关闭时，屏下摄像头区用于画面显示，实现全面屏显示。在摄像头开启时实现摄像功能。屏下摄像头区不同于常规显示区，采用的液晶类型属于散射型液晶，能够进行透明显示。正常情况下，光线通过液晶层会被液晶层散射，透过显示器的光线变少，使显示器呈散射的雾态。雾度是衡量透明或半透明材料透明特性的重要参数，通常情况下，光程越大，光线被液晶散射的效果越明显，雾度效果越好。通过对电压的控制可以实现散射的雾态和透射的透态的转化。屏下摄像头区用于画面显示时，透态与雾态的对比度越大，显示效果越好。通过对屏下摄像头区雾态下光线的透过率的控制来调节雾度，调节对比度，可以实现画面更好的显示效果。

但现有显示面板的屏下摄像头区的液晶层厚度为三微米左右，其雾度较差，从而影响其对比度较差，画面的显示效果也较差。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法，解决了屏下摄像头区的雾度较低的技术问题，从而提高了所述屏下摄像头区的对比度，增强了所述屏下摄像头区的画面显示效果。

为了解决上述问题，本发明提供一种阵列基板，设有显示区和屏下摄像头区，阵列基板包括从下至上依次层叠设置的基板、驱动电路层、平坦层、公共电极层、绝缘层和像素电极层。具体地讲，所述驱动电路层设于所述基板上；所述平坦层设于所述驱动电路层上；所述平坦层在位于所述屏下摄像头区设有凹槽；所述公共电极层设于所述平坦层上；所述绝缘层设于所述公共电极层上；所述像素电极层设于所述绝缘层上。

进一步地，所述凹槽的分布范围与所述屏下摄像头区的分布范围相同。

进一步地，所述凹槽的深度等于所述平坦层的厚度。

进一步地，所述凹槽的深度为1um-2um。

本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤：

提供一基板，所述基板设有显示区和屏下摄像头区；

在所述基板上制作驱动电路层；

在所述驱动电路层上制作平坦层，并在位于所述屏下摄像头区的所述平坦层上制作凹槽；

在所述平坦层上制作公共电极层；

在所述公共电极层上制作绝缘层；以及

在所述绝缘层上制作像素电极层。

进一步地，所述制作凹槽的步骤为在位于所述屏下摄像头区的所述平坦层上通过蚀刻方式形成所述凹槽；所述凹槽的分布范围与所述屏下摄像头区的分布范围相同。

进一步地，所述凹槽的深度等于所述平坦层的厚度；所述凹槽的深度为1um-2um。

本发明再提供一种显示面板，包括上述阵列基板。