[发明专利]一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法有效
| 申请号： | 201910908811.4 | 申请日： | 2019-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN110632802B | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 梅新东;王超;刘广辉 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/133;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 汪阮磊 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 显示 面板 制作方法 | ||
1.一种阵列基板，设有显示区和屏下摄像头区，其特征在于，包括：
基板；
驱动电路层，设于所述基板上；
平坦层，设于所述驱动电路层上；所述平坦层在位于所述屏下摄像头区设有凹槽；所述凹槽的深度等于所述平坦层的厚度；
公共电极层，设于所述平坦层上；
绝缘层，设于所述公共电极层上；以及
像素电极层，设于所述绝缘层上。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的分布范围与所述屏下摄像头区的分布范围相同。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的深度为1um-2um。
4.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：
提供一基板，所述基板设有显示区和屏下摄像头区；
在所述基板上制作驱动电路层；
在所述驱动电路层上制作平坦层，并在位于所述屏下摄像头区的所述平坦层上制作凹槽；所述凹槽的深度等于所述平坦层的厚度；
在所述平坦层上制作公共电极层；
在所述公共电极层上制作绝缘层；以及
在所述绝缘层上制作像素电极层。
5.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作凹槽的步骤为在位于所述屏下摄像头区的所述平坦层上通过蚀刻方式形成所述凹槽；所述凹槽的分布范围与所述屏下摄像头区的分布范围相同。
6.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述凹槽的深度为1um-2um。
7.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-3中任一项所述的阵列基板。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括：
液晶层，设于所述阵列基板上；位于所述屏下摄像头区的所述液晶层的厚度为4um-5um；以及
彩膜基板，设于所述液晶层上且与所述阵列基板相对设置。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，
在所述屏下摄像头区内，所述像素电极层与彩膜基板的距离为4um-5um。
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