[发明专利]能够在I线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂有效
| 申请号： | 201910908573.7 | 申请日： | 2019-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112558409B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 钱晓春;胡春青;龚艳;刘葛 | 申请（专利权）人： | 常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C09D11/03;C09D11/38;C09D7/63;C07D209/48;C07D403/04;C07D401/04;C07D209/86;C07D409/04;C07D417/04;C07D413/04;C07D209/88 |
| 代理公司： | 北京汉德知识产权代理事务所(普通合伙) 11328 | 代理人： | 刘子文;徐驰 |
| 地址： | 213159 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 能够 高产 亚胺 类光产酸剂 | ||
1.一种能够在I线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂，具有通式(A)所示结构：
其中，
R1为C1-C6的直链或支链的全氟代烷基、全氟代苯基、至少一个氢原子被C1-C6的烷基或氟代烷基所取代的苯基、或樟脑基；
L为连接位在N原子上的吡咯基、吲哚基、1,2-二氢喹啉基、吗啉基、咪唑基或咔唑基，任选地，L上的至少一个氢原子可以被R2所取代；其中，
R2选自下列基团：
卤素；
C1-C20的直链或支链的烷基或卤代烷基，任选地，其中的-CH2-可以被-O-或-S-所取代；
苯基，任选地，其中的至少一个氢原子可以被C1-C4的烷基所取代；
C7-C10的苯基烷基，任选地，其中的-CH2-可以被-O-所取代；
R1’-CO-，其中R1’表示C1-C6的烷基、苯基，且任选地，苯基中的至少一个氢原子可以被C1-C4的烷基或烷氧基所取代；
R2’-CO-O-R3’-，其中R2’表示C1-C8的烷基、苯基，R3’表示单键或C3-C4的炔基,并且所述烷基中的-CH2-可任选地被-O-所取代，所述苯基中的至少一个氢原子可任选地被C1-C4的烷基所取代；
C2-C6的直链或支链的烯基，任选地，其中的-CH2-可以被-O-所取代；
以C6-C10的芳基为封端的C2-C4的烯基；
C2-C6的直链或支链的炔基；
以C6-C10的芳基为封端的C2-C4的炔基；
C1-C6的烷基磺酰氧基，任选地，烷基上的氢可以被氟原子所取代；
或C6-C10的芳基磺酰氧基；
并且当R2的数量大于1时，它们可彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的磺酰亚胺类光产酸剂，其特征在于：所述卤素为氟、氯、溴或碘原子。
3.根据权利要求1所述的磺酰亚胺类光产酸剂，其特征在于，选自下列结构：
4.一种酸产生方法，其特征在于：对权利要求1-3中任一项所述的磺酰亚胺类光产酸剂照射活性能量射线。
5.根据权利要求4所述的酸产生方法，其特征在于：所述活性能量射线为近紫外光区域、可见光区域的波长在300-450nm之间的活性能量射线。
6.根据权利要求5所述的酸产生方法，其特征在于：所述活性能量射线为波长365nm的活性能量射线。
7.权利要求1-3中任一项所述的磺酰亚胺类光产酸剂在制备涂料、涂敷剂、油墨、抗蚀膜、液态抗蚀剂、负型抗蚀剂、正型抗蚀剂、MEMS用抗蚀剂、负型感光性材料、立体光刻和微立体光刻用材料中的应用。
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