[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括叠设的微腔结构层和发光结构层，所述微腔结构层中设置有反射电极，所述微腔结构层中覆盖所述反射电极的第二绝缘层的表面上设置有凹槽和过孔，所述过孔设置在所述凹槽内，所述发光结构层包括第一电极，所述第一电极设置在所述第二绝缘层的凹槽内，以控制所述第一电极与第二绝缘层之间的断差，所述第一电极通过所述过孔与所述反射电极连接。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：设置在硅基衬底上的驱动电路层，所述驱动电路层包括驱动晶体管，所述驱动电路层上设置有暴露出所述驱动晶体管的漏电极的第一过孔。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述微腔结构层包括：

设置在所述驱动电路层上的连接电极，所述连接电极通过所述第一过孔与所述驱动晶体管的漏电极连接；

覆盖所述连接电极的第一绝缘层，所述第一绝缘层上设置有暴露出所述连接电极的第二过孔；

设置在所述第一绝缘层上的反射电极，所述反射电极通过所述第二过孔与连接电极连接；

覆盖所述反射电极的第二绝缘层，所述第二绝缘层远离硅基衬底的表面上设置有凹槽，所述凹槽内设置有暴露出所述反射电极的第三过孔。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极设置在所述第二绝缘层的凹槽内，通过所述第三过孔与反射电极连接；所述发光结构层还包括：设置在所述第一电极上出射白光的发光层，以及设置在所述发光层上的第二电极。

5.根据权利要求1～4任一所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的深度为200埃～600埃。

6.根据权利要求1～4任一所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽在硅基衬底上的正投影包含所述第一电极在硅基衬底上的正投影。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～6任一所述的显示基板。

8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

形成微腔结构层，所述微腔结构层中形成有反射电极，所述微腔结构层中覆盖所述反射电极的第二绝缘层的表面上形成有凹槽和过孔，所述过孔设置在所述凹槽内；

在所述微腔结构层上形成发光结构层，所述发光结构层包括第一电极，所述第一电极形成在所述第二绝缘层的凹槽内，以控制所述第一电极与第二绝缘层之间的断差，且通过所述过孔与所述反射电极连接。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成微腔结构层之前，还包括：

在硅基衬底上形成驱动电路层，所述驱动电路层包括驱动晶体管，所述驱动电路层上形成有暴露出驱动晶体管的漏电极的第一过孔。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，形成微腔结构层包括：

在所述驱动电路层上形成连接电极，所述连接电极通过所述第一过孔与驱动晶体管的漏电极连接；

形成覆盖所述连接电极的第一绝缘层，所述第一绝缘层上形成有暴露出所述连接电极的第二过孔；

在所述第一绝缘层上形成反射电极，所述反射电极通过所述第二过孔与连接电极连接；

形成覆盖所述反射电极的第二绝缘层，所述第二绝缘层远离硅基衬底的表面上形成有凹槽，所述凹槽内形成有暴露出所述反射电极的第三过孔。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，在所述微腔结构层上形成发光结构层，包括：

在所述第二绝缘层的凹槽内形成第一电极，所述第一电极通过所述第三过孔与反射电极连接；

在所述第一电极上形成出射白光的发光层；

在所述发光层形成第二电极。

12.根据权利要求8～11任一所述的制备方法，其特征在于，所述凹槽的深度为200埃～600埃。

13.根据权利要求8～11任一所述的制备方法，其特征在于，所述凹槽在硅基衬底上的正投影包含所述第一电极在硅基衬底上的正投影。