[发明专利]一种等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

反应腔，所述反应腔包括顶壁、侧壁与底壁；

位于所述反应腔内、且设置于所述顶壁处的上电极；

位于所述反应腔内、且与所述上电极相对设置的下电极；

位于所述反应腔内、且环绕所述下电极设置的接地环；

以及，环绕所述下电极设置、且连接于所述接地环与所述侧壁之间的导电支架，其中，所述导电支架包括接触所述接地环的内接环、接触所述侧壁的外接环及连接于所述外接环和内接环之间的多个阻抗可调器件。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述阻抗可调器件为非电控制的阻抗可调器件。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述阻抗可调器件为可变电容器件、可变电阻器件或可变电感器件。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述阻抗可调器件为气动可变电容器件。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述气动可变电容器件包括：

连接所述内接环的第一极板和连接所述外接环的第二极板；

以及，与所述第一极板或第二极板连接的空气压缩管路，所述空气压缩管路通过空气压力控制连接的极板运动，而改变所述第一极板和所述第二极板之间间距。

6.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述多个阻抗可调器件之间等间距环绕所述下电极设置。

7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，任意相邻两个所述阻抗可调器件之间间距不同。

8.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，在所述多个阻抗可调器件中：

部分所述阻抗可调器件中相邻两个所述阻抗可调器件之间间距相同，及另外部分所述阻抗可调器件中相邻两个所述阻抗可调器件之间间距不同。

9.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，位于所述下电极与所述接地环之间还设置有边缘绝缘环。

10.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，所述等离子体处理装置还包括设置于所述接地环与所述侧壁之间的约束环，且所述导电支架位于所述约束环朝向所述底壁一侧；其中，所述约束环用于将其区域处的等离子中带电离子电中和。