[发明专利]一种等离子体处理装置在审

专利信息
申请号: 201910880951.5 申请日: 2019-09-18
公开(公告)号: CN112530775A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 吴磊;梁洁;涂乐义 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 潘颖
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子体处理装置,其特征在于,位于所述等离子体处理装置的反应腔内包括:

相对设置的气体喷淋头和静电吸盘;

以及,环绕所述气体喷淋头设置的上接地环,所述上接地环沿环形方向分割为多个子接地区;

其中,每一所述子接地区各自电连接一位于所述反应腔外的阻抗可调装置。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述阻抗可调装置为可变电容调节装置。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述可变电容调节装置包括固定极板和可动极板,其中,所述子接地区电连接所述固定极板。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述固定极板与所述可动极板相对设置方向,与所述气体喷淋头和所述静电吸盘相对设置方向垂直。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述可变电容调节装置包括与所述可动极板相连的传动装置;

其中,所述固定极板与所述可动极板之间间距固定,所述传动装置带动所述可动极板在垂直所述固定极板和所述可动极板相对方向上移动。

6.根据权利要求3所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述等离子体处理装置还包括固定于所述反应腔外的防护罩,其中,所述固定极板与所述可动极板位于所述防护罩内。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述传动装置为马达传动装置。

8.根据权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述传动装置为气动传动装置。

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