[发明专利]一种减小土壤含水率对多环芳烃荧光工作曲线影响的校正方法有效
| 申请号： | 201910878785.5 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110806400B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 杨仁杰;张婧;柳春雨;董桂梅;杨延荣;刘海学;孙国红 | 申请（专利权）人： | 天津农学院 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/3563;G01N21/359 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 张博 |
| 地址： | 300384*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 减小 土壤 含水率 芳烃 荧光 工作 曲线 影响 校正 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种减小土壤含水率对多环芳烃荧光工作曲线影响的校正方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：选取多个不同含水率的土壤样品，并针对土壤样本制备多个不同浓度多环芳烃的土壤样品；
步骤2：根据步骤1中不同含水率多环芳烃的土壤样品，建立相应多环芳烃浓度矩阵C；
步骤3：扫描步骤1中制备的每个土壤样品制备相应的荧光谱和近红外漫反射光谱；得到每个土壤样品的荧光谱和近红外漫反射光谱；
步骤4：对于步骤3中的荧光谱，选定用于建立定量分析多环芳烃工作曲线的定量荧光谱带M；
步骤5：对于步骤3中的近红外漫反射光谱，选定用于校正工作曲线的近红外漫反射光谱带N；
步骤6：提取步骤4中定量荧光谱带M处的荧光强度，得到相应荧光强度矩阵F；
步骤7：提取步骤5中近红外漫反射谱带N的强度，得到相应近红外漫反射强度矩阵S；
步骤8：通过步骤7中所提取的近红外漫反射强度矩阵S对步骤6中所提取的荧光强度矩阵F进行校正，即得到每个土壤样品的校正荧光强度矩阵Fc；
步骤9：根据步骤8 得到的校正荧光强度矩阵Fc和步骤2中建立的多环芳烃浓度矩阵C，建立校正工作曲线。
2.根据权利要求1所述的一种减小土壤含水率对多环芳烃荧光工作曲线影响的校正方法，其特征在于：所述土壤样品的含水率范围为0-35％。
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