[发明专利]用于制造单晶金刚石的微波等离子体反应器及其扩散装置

权利要求书

1.一种扩散装置，其特征在于，包括：

扩散基座（10），具有呈锥状的壁体（11），所述壁体（11）的上沿设置有第一法兰盘（12），壁体（11）的下沿设置有与第一法兰盘（12）相平行的第二法兰盘（13）；所述壁体（11）在其内部围合形成一扩散口（14），所述扩散口（14）的横截面面积由第一法兰盘（12）向第二法兰盘（13）方向逐步增大；

进气管（20）组，包括至少两根绕扩散基座（10）轴线周向均布的进气管（20）；以及，

介质玻璃（30），卡设于第一法兰盘（12）内且将扩散口（14）的上方所封闭；

其中，所述壁体（11）上还开设有沿轴线周向均布的若干气孔（111），进气管（20）所带入的气体通过气孔（111）引入至扩散口（14）内；

所述扩散口（14）具有130°~140°的锥度，所述气孔（111）周向均布有12~24个，所述气孔（111）的直径为扩散口（14）高度的0.05~0.1。

2.根据权利要求1所述的扩散装置，其特征在于，还包括：

夹套（40），与扩散基座（10）连接，包括贴合于第一法兰盘（12）外周面的内夹层（41），所述内夹层（41）与壁体（11）的外表面之间形成一气腔（15），气腔（15）通过气孔（111）与扩散口（14）连通，所述进气管（20）与气腔（15）连接。

3.根据权利要求2所述的扩散装置，其特征在于，所述夹套（40）还包括处于内夹层（41）外缘的外夹层（42），内、外夹层（42）之间形成一冷却通道（43），其中，所述外夹层（42）上设置有与冷却通道（43）连通的进液管（45）与出液管（46）。

4.根据权利要求3所述的扩散装置，其特征在于，所述夹套（40）的下端连接于第二法兰盘（13）上，且于该下端处设有与冷却通道（43）连通的开口（44）。

5.根据权利要求1所述的扩散装置，其特征在于，所述气孔（111）的轴线垂直于壁体（11）。

6.根据权利要求1所述的扩散装置，其特征在于，所述第一法兰盘（12）开设有限位槽，所述介质玻璃（30）卡设于限位槽内，所述限位槽的槽底处开设有密封环槽（121），所述密封环槽（121）内嵌设有银丝密封圈（50）。

7.一种用于制造单晶金刚石的微波等离子体反应器，其特征在于，包括等离子体室（60）以及如权利要求1~6任一项所述的扩散装置，所述等离子体室（60）具有一谐振腔（61），所述扩散装置连接于等离子体室（60）的上方，其中，扩散口（14）与谐振腔（61）相连通。