[发明专利]标准单元设计系统及其设计优化方法以及半导体设计系统

说明书

提供了一种标准单元设计系统。标准单元设计系统包括至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为实现：控制引擎，确定目标标准单元的平面参数和垂直参数；三维结构生成引擎，基于平面参数和垂直参数生成目标标准单元的三维结构；提取引擎，从三维结构中提取目标标准单元的标准单元模型；评估引擎，基于标准单元模型执行多个评估操作；以及自动优化引擎，基于机器学习算法，基于多个评估操作的结果来调整平面参数和垂直参数。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年9月11日在美国专利和商标局提交的美国临时专利临时申请No.62/729,615的权益，并且要求于2018年10月26日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0128920的优先权，上述两个申请的内容通过引用整体并入本文。

技术领域

根据示例实施例的方法和装置涉及半导体器件，更具体地，涉及标准单元设计系统、其标准单元设计优化方法和半导体设计系统。

背景技术

基于布局来制造半导体集成电路。产生半导体集成电路的布局的过程可以包括各种工艺。例如，产生半导体集成电路的布局的过程可以包括在布局中放置诸如晶体管的半导体元件的布置工艺、以及在布局中对半导体元件进行连接(或布线)的布线工艺。

例如，可以以标准单元的形式设置诸如晶体管的半导体元件。标准单元可以是具有基于特定制造工艺预先限定的形状的逻辑元件或半导体器件。可以通过各种方案预先确定标准单元。然而，随着用于制造半导体集成电路的亚微米技术和其他半导体制造技术的发展，研究主要集中在针对亚微米技术优化的标准单元或下一代标准单元。

发明内容

根据示例实施例，一种标准单元设计系统包括至少一个处理器，被配置为实现：控制引擎，被配置为确定目标标准单元的平面参数和垂直参数；三维结构生成引擎，被配置为基于平面参数和垂直参数生成目标标准单元的三维结构；提取引擎，被配置为从三维结构中提取目标标准单元的标准单元模型；评估引擎，被配置为基于标准单元模型执行多个评估操作；以及自动优化引擎，被配置为基于机器学习算法，基于多个评估操作的结果来调整平面参数和垂直参数。

根据示例实施例，一种标准单元设计系统的标准单元设计优化方法包括：确定目标标准单元的平面参数和垂直参数；基于平面参数和垂直参数来生成目标标准单元的第一三维结构；从第一三维结构中提取第一标准单元模型；基于第一标准单元模型来对目标标准单元执行多个评估操作；确定多个评估操作的结果是否分别满足多个参考值；基于多个评估操作的结果不满足多个参考值，基于根据平面参数、垂直参数和多个评估操作的结果所更新的训练模型来识别重新调整后的平面参数和重新调整后的垂直参数；基于重新调整后的平面参数和重新调整后的垂直参数来生成第二三维结构；基于第二三维结构来提取第二标准单元模型；以及基于第二标准单元模型来执行多个评估操作。

根据示例实施例，一种半导体设计系统包括至少一个处理器，被配置为实现：标准单元设计系统，被配置为基于第一机器学习算法来优化多个标准单元的平面参数和垂直参数；标准单元库，被配置为基于由标准单元设计系统所优化的平面参数和垂直参数，生成分别与多个标准单元中的每一个相对应的优化的标准单元信息；以及块设计系统，被配置为基于由标准单元库所生成的优化的标准单元信息来生成目标半导体器件的块布局。

根据示例实施例，一种优化系统包括：处理器；以及存储器，包括能够由处理器执行的指令。指令在由处理器执行时，使处理器：确定目标标准单元的平面参数和垂直参数；基于平面参数和垂直参数来生成目标标准单元的三维结构；从三维结构中提取标准单元模型；基于标准单元模型来对目标标准单元执行多个评估操作；以及基于第一机器学习算法，基于多个评估操作的结果来调整平面参数和垂直参数。

附图说明

根据结合附图给出的以下详细描述，将更清楚地理解以上和其他方面、特点和优点。

图1是示出了根据示例实施例的半导体设计系统的框图。