[发明专利]一种显示面板及其制作方法

权利要求书

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在玻璃基板上制作栅极；

在所述栅极上制作栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上制作至少一层金属1T’相接触层；

对沟道区域的金属1T’相接触层进行激光处理，以使所述沟道区域的金属1T’相接触层转化为半导体2H相接触层，分别得到沟道、源极以及漏极；其中所述沟道区域与所述栅极的位置对应。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对沟道区域的金属1T’相接触层进行激光处理，以使所述沟道区域的金属1T’相接触层转化为半导体2H相接触层，分别得到沟道、源极以及漏极的步骤包括：

对沟道区域的金属1T’相接触层进行激光处理，以使所述沟道区域的金属1T’相接触层转化为半导体2H相接触层，得到沟道；

使位于所述沟道两侧的金属1T’相接触层形成源极以及漏极。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述对沟道区域的金属1T’相接触层进行激光处理，以使所述沟道区域的金属1T’相接触层转化为半导体2H相接触层，分别得到沟道、源极以及漏极的步骤包括：

对沟道区域的金属1T’相接触层进行激光处理，以使所述沟道区域的金属1T’相接触层转化为半导体2H相接触层，得到沟道；

在所述金属1T’相接触层上制作第二金属层，对所述第二金属层进行图案化处理，以在位于所述沟道两侧中的一侧的金属1T’相接触层上形成源极，在位于所述沟道两侧中的另一侧的金属1T’相接触层上形成漏极。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述沟道、源极以及漏极上形成钝化层，所述钝化层上设置有过孔；

在所述钝化层上以及所述过孔内制作像素电极，其中所述像素电极通过所述过孔与所述漏极连接。

5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述栅绝缘层上制作金属1T’相接触层的步骤包括：

采用溶液法和气相合成法中的至少一种在所述栅绝缘层上制备金属1T’相接触层。

6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述金属1T’相接触层的层数根据薄膜晶体管的预设导电性能设置。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述接触层的材料为二硫化钼。

8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述栅绝缘层的材料包括SiOx、SiNx、SiNO、Al₂O₃、AlN、BN以及HfO₂中的至少一种。

9.一种显示面板，其特征在于，包括：

玻璃基板；

栅极，设于所述玻璃基板上；

栅绝缘层，设于所述栅极上；

沟道，设于所述栅绝缘层上，所述沟道与所述栅极的位置对应，所述沟道的材料为半导体2H相接触层；

至少一金属1T’相接触层，设于所述栅绝缘层上，且位于所述沟道的两侧；

源极和漏极，分别位于所述沟道的两侧中的一侧，所述源极的材料和所述漏极的材料相同，所述源极的材料与所述沟道的材料不同。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述源极的材料为金属1T’相二硫化钼或者金属。