[发明专利]曝光方法、曝光装置以及物品制造方法

说明书

提供一种曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，该技术能够一边维持生产率一边降低曝光不均。曝光方法是曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包含将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，该曝光装置对所述基板进行扫描曝光，该曝光方法具有：取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息的工序；以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间的工序；以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件的工序；以及按照调整过的所述曝光条件来进行所述基板的扫描曝光的工序。

技术领域

本发明涉及曝光方法、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

使用光刻技术将透明薄膜电极在玻璃基板上图案化为期望的形状，从而制作液晶面板、有机EL面板等显示器。在光刻工序中使用曝光装置，该曝光装置向预先描绘有图案的掩模(或掩模原版(reticle))上照射曝光光，并经由投影光学系统将掩模上的图案投影到涂敷有光致抗蚀剂的玻璃基板等基板上。此外，在显示器的制造中，经常使用适合于大画面曝光的反射镜投影方式的曝光装置。

近年来，对智能电话、平板用途的显示器要求高精细化，与之相伴，对曝光装置要求比以往更高的分辨率性能、更高的生产率(高生产量)。在曝光装置中，将绘有要曝光的电路图案的掩模载置于掩模载置台上，向掩模照射照明光。在为扫描曝光装置的情况下，一边对掩模载置台和载置有作为被曝光对象的基板的基板载置台同时进行扫描，一边进行曝光。在扫描曝光装置中，为了确保高生产率，需要一边使掩模载置台和基板载置台高速地动作一边进行曝光。此时，掩模载置台、基板载置台的驱动成为振动源，该振动传递到曝光装置主体的结构体、配置于投影光学系统内的光学部件。这样的振动使被曝光的抗蚀剂图案的形状周期性变动，在基板上产生曝光不均。曝光不均是指在曝光结束的基板上看到的在基板上反射或者透射的光的强度的不均。曝光不均是起因于被曝光的抗蚀剂图案的轮廓(抗蚀剂的宽度、锥角、曝光后的抗蚀剂高度等)的波动、形成图案的位置的变动而被看到的现象。由于从质量上而言不期望曝光不均明显的面板，因此在面板制造时需要注意抑制振动，以使得尽可能不发生曝光不均。

日本特开2015-87514号公报(专利文献1)公开了一种曝光装置，该曝光装置具有使用积蓄在装置内的过去的数据来检测曝光结果是否发生了曝光不均的功能。由此，检测出装置变为了容易发生曝光不均的状态，在成为曝光不均的发生要因的项目的诊断结果超过了阈值的情况下，中止装置的运转。由此，能够抑制大量地生产出次品。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-87514号公报

发明内容

但是，伴随着面板的高精细化，曝光图案变得越来越微细，曝光不均的发生要因的阈值也逐渐变为非常严苛的水平。因此，即使在装置内发生比较小的振动，也容易发生曝光不均，装置的运转停止会频繁发生，由此导致生产率下降。

本发明的目的在于提供一种例如一边维持生产率一边降低曝光不均的技术。

根据本发明的第一方面，提供一种曝光方法，是曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包含将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，该曝光装置对所述基板进行扫描曝光，该曝光方法的特征在于，具有：取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息的工序；以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间的工序；以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件的工序；以及按照调整过的所述曝光条件来进行所述基板的扫描曝光的工序。