[发明专利]曝光方法、曝光装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，是曝光装置中的曝光方法，所述曝光装置包含将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，该曝光装置对所述基板进行扫描曝光，所述曝光方法的特征在于，具有：

取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息的工序；

以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间的工序；

以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件的工序；以及

按照调整过的所述曝光条件来进行所述基板的扫描曝光的工序。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

以使转印到所述基板的图案的位置的偏差的波动低于允许值的方式来确定所述目标曝光时间。

3.根据权利要求2所述的曝光方法，其特征在于，

所述目标曝光时间被确定为所述波动低于所述允许值的时间范围之中最小的时间。

4.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

以使转印到所述基板上的图案的线宽的偏差的波动低于允许值的方式来确定所述目标曝光时间。

5.根据权利要求4所述的曝光方法，其特征在于，

所述目标曝光时间被确定为所述波动低于所述允许值的时间范围之中最小的时间。

6.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

所述目标曝光时间被确定为成为所述变动的周期的整数倍的值。

7.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

通过测量所述投影光学系统中的光学部件的振动、或者由保持所述掩模的掩模载置台与保持所述基板的基板载置台之间的同步控制误差引起的振动、或这双方，来求出所述变动。

8.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

通过拍摄转印到进行了所述扫描曝光的基板的光学像并对通过该拍摄得到的图像进行处理，来求出所述变动。

9.根据权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，

通过调整曝光光的照度、扫描速度、对光源的光进行整形的缝隙的扫描方向的宽度之中至少两者，来进行所述曝光条件的调整。

10.一种物品制造方法，其特征在于，包含：

按照权利要求1至9中的任意一项所述的曝光方法将基板曝光的工序；以及

对在所述工序中被曝光的所述基板进行显影的工序，

在所述物品制造方法中，从被显影的所述基板制造物品。

11.一种曝光装置，进行基板的扫描曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：

投影光学系统，将掩模的图案投影到所述基板；以及

控制部，对所述扫描曝光进行控制，

所述控制部取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息，以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间，以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件。