[发明专利]阵列基板及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底层；

功能结构层，设于所述衬底层上，所述功能结构层中具有有机填充层；

至少一钝化层，设于所述功能结构层的所述有机填充层上，所述钝化层中具有亲水物质或基团；

有机平坦层，设于所述钝化层远离所述功能结构层的一表面上；

所述钝化层为双层结构，所述钝化层中靠近所述有机填充层的一层中具有亲水物质或基团，其靠近所述有机平坦层的一层中具有疏水物质或基团。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述功能结构层中还包括：

阻隔层，设于所述衬底层上；

缓冲层，设于所述阻隔层上；

有源层，设于所述缓冲层上；

第一绝缘层，设于所述有源层和所述缓冲层的上；

第一栅极层，设于所述第一绝缘层上；

第二绝缘层，设于所述第一栅极层和所述第一绝缘层上；

第二栅极层，设于所述第二绝缘层上；

介电层，设于所述第二栅极层和所述第二绝缘层上；

源漏极层，设于所述介电层上，并穿过所述介电层、所述第二绝缘层和所述第一绝缘层与所述有源层的两端连接；

其中，所述有机填充层设于所述介电层和所述源漏极层之间。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述有机填充层具有延伸部和垂直部；

所述延伸部覆于所述介电层上；

所述垂直部垂直连接于所述延伸部，并穿过所述介电层、所述第二绝缘层、所述第一绝缘层、所述缓冲层和部分阻隔层。

4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，

所述阵列基板具有功能区和包围所述功能区的非功能区；

所述有机填充层的延伸部设于所述非功能区内；

所述有源层、所述第一栅极层、所述第二栅极层和所述源漏极层设于所述功能区内。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述钝化层的材料为无机物和带有亲水键的有机物中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，

所述无机物为氮化硅、氧化硅、单晶硅、锗、氧化锆中的一种或多种；

所述有机物为带有羧基的有机物、带有羟基的有机物中的一种或多种。

7.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层具有掺杂区，所述掺杂区对应设于所述有源层的两端，并且源漏极层与所述掺杂区连接。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7中任意一项所述的阵列基板。