[发明专利]清洗装置、方法及存储介质

权利要求书

1.一种清洗装置，其特征在于，所述装置包括：

转台；所述转台能够转动；

固定部件，设置在所述转台上；待清洗器件通过所述固定部件固定在所述转台上；其中，被固定在所述转台上的所述待清洗器件与所述转台之间形成有中空结构；所述转台的转动带动所述待清洗器件转动；

第一喷头，设置在所述待清洗器件的上方，用于向所述待清洗器件的待清洗面喷射清洗剂，以清洁所述待清洗面；

第二喷头，用于喷射第一液体，以在清洁所述待清洗面的过程中去除待流入所述中空结构中的清洗剂，使得所述待清洗器件的非清洗面不接触到所述清洗剂；所述第二喷头的个数为多个；多个第二喷头以圆形布设在所述转台的上表面上。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一液体为去离子水。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述多个第二喷头形成的圆形的第一半径小于所述待清洗器件的第二半径。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第一半径与所述第二半径之间相差第一预设长度。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗装置还包括控制器，所述控制器用于控制所述第二喷嘴开启的时刻早于所述第一喷嘴开启的时刻，且所述第二喷嘴关闭的时刻晚于所述第一喷嘴关闭的时刻。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述待清洗器件以待清洗面向上固定于所述转台上。

7.一种清洗方法，其特征在于，所述方法包括：

控制清洗装置的转台旋转，以带动待清洗器件旋转；所述待清洗器件通过所述清洗装置的固定部件固定在所述清洗装置的转台上；被固定在所述转台上的所述待清洗器件与所述转台之间形成有中空结构；

控制所述清洗装置的第二喷头喷射第一液体，所述第二喷头的个数为多个；多个第二喷头以圆形布设在所述转台的上表面上；

控制所述清洗装置的第一喷头向所述待清洗器件的待清洗面喷射清洗剂，以使所述待清洗器件的待清洗面得到清洗；所述第一喷头设置在所述待清洗器件的上方；利用所述第一液体去除待流入所述中空结构中的清洗剂，使得所述待清洗器件的非清洗面不接触到所述清洗剂。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一液体为去离子水。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，控制所述第二喷嘴开启的时刻早于所述第一喷嘴开启的时刻，且所述第二喷嘴关闭的时刻晚于所述第一喷嘴关闭的时刻。

10.一种存储介质，其上存储有可执行指令，其特征在于，所述可执行指令被处理器执行时实现权利要求7至9任一项所述方法的步骤。