[发明专利]洗边装置

说明书

本发明揭示了一种洗边装置，包括支撑轴、驱动装置、旋转支架、L型支杆、喷头装置、第一微调机构以及第二微调机构，驱动装置安装在支撑轴的一端，旋转支架安装在支撑轴的另一端，L型支杆包括竖直支杆和水平支杆，竖直支杆转动安装在旋转支架的自由端，水平支杆上转动安装有喷头装置，第一微调机构，安装在旋转支架上，用于驱动L型支杆旋转，第二微调机构，安装在L型支杆上，用于驱动喷头装置旋转。本发明通过手动调节第一微调机构及第二微调机构灵活调节喷头装置的高度及角度，从而使喷嘴到达最佳洗边位置，精确控制洗边宽度及过渡区域的宽度，达到最佳洗边效果，提高产品质量。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地，涉及一种可调节洗边宽度及过渡区域宽度的洗边装置。

背景技术

在半导体制造过程中，会涉及到对晶圆进行洗边工艺，例如晶圆电化学镀铜后且化学机械抛光前，需要对晶圆进行洗边以将晶圆边缘的一层铜薄膜去除，又例如晶圆涂胶后需要对晶圆进行洗边以将晶圆边缘的光刻胶去除。对晶圆进行洗边时，不仅需要考虑晶圆边缘铜薄膜或光刻胶去除的宽度，同时也要保证过渡区域的宽度，边缘去除宽度以及过渡区域宽度决定了洗边的质量，洗边的质量影响着产品的质量。现有技术通常是采用喷头对晶圆进行湿法洗边，在洗边过程中，既要保证产品洗边均匀，也要保证洗边宽度以及过渡区域宽度，防止洗边不良导致产品良率降低或返工，而喷头的出液方向、高度等对洗边效果及过渡区域宽度均有很大的影响，喷头的出液方向、高度等调节的不精准均会导致洗边效果不佳。

目前，洗边用的传统的喷头装置不能灵活调节喷头的出液方向、高度及液柱相对于晶圆的倾斜角，从而导致晶圆洗边过渡区域宽度不佳或者是洗边不充分，使得产品的良率受损或需要进行返工，影响了生产效率，同时也造成了生产成本的损失。

发明内容

本发明的目的是提供一种洗边装置，能够将喷头调节至最佳洗边位置，既可以控制洗边宽度，又可以控制过渡区域宽度，从而提高洗边效果，进而提高产品质量。

为实现上述目的，本发明提供的一种洗边装置，包括：

支撑轴；

安装于支撑轴一端的驱动装置；

安装于支撑轴另一端的旋转支架；

L型支杆，包括相互连接的竖直支杆和水平支杆，竖直支杆转动安装在旋转支架的自由端，水平支杆上转动安装有喷头装置；

第一微调机构，安装在旋转支架上，用于驱动L型支杆旋转；

第二微调机构，安装在L型支杆上，用于驱动喷头装置旋转。

进一步，所述第一微调机构包括：

第一固定板，安装在旋转支架上；

第一调节杆，限位在所述第一固定板内设的第一凹槽中；

第一滑块，与所述第一调节杆螺纹连接；

竖直支杆上开设有第一开孔，第一滑块上设有第一凸块，第一凸块与第一开孔滑动连接；

当旋转第一调节杆时，第一滑块沿第一凹槽移动，并由第一凸块推动L型支杆相对旋转支架转动。

进一步，所述第一微调机构还包括：

第一指针，固定安装在第一固定板上；

第一角度标尺，标识在竖直支杆上，所述第一指针指向第一角度标尺。

进一步，所述竖直支杆上还开设有第二开孔，第二开孔为圆弧形，其圆心与L型支杆的旋转中心重合；L型支杆和旋转支架之间采用紧固件穿过所述第二开孔相连。

进一步，所述第二微调机构包括：

第二固定板，安装在L型支杆上；