[发明专利]一种合成DDR分子筛膜的方法在审
申请号: | 201910779384.4 | 申请日: | 2019-08-22 |
公开(公告)号: | CN110605029A | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | 张延风;徐宁;王明全;张野;孔琳 | 申请(专利权)人: | 上海工程技术大学 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D69/04;B01D71/02;C01B32/50;C10L3/10;B01D53/22 |
代理公司: | 31225 上海科盛知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 201620 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分子筛膜 四乙基氢氧化铵 合成 分子筛 多孔载体管 金刚烷胺 晶种 母液 焙烧 分离选择性 分子筛粉体 混合模板剂 臭氧气氛 快速合成 水热合成 亚微米级 晶化釜 水混合 硅源 活化 晶化 膜管 球磨 涂覆 脱除 洗涤 | ||
本发明涉及一种合成DDR分子筛膜的方法,DDR分子筛粉体经球磨得到亚微米级的DDR分子筛晶种;将硅源、金刚烷胺、四乙基氢氧化铵和水混合得到DDR分子筛膜合成母液;将DDR分子筛晶种涂覆到多孔载体管上;将DDR分子筛膜合成母液和多孔载体管置于晶化釜中进行水热合成处理,合成结束后,得到膜管经洗涤、干燥;在臭氧气氛下焙烧脱除四乙基氢氧化铵,得到活化的DDR分子筛膜。与现有技术相比,本发明利用金刚烷胺和四乙基氢氧化铵混合模板剂,四乙基氢氧化铵的加入抑制了杂项的生成,从而可以在高温下快速合成DDR分子筛膜,大幅缩短了晶化时间,得到的DDR分子筛膜具有较高的CO2‑CH4分离选择性。
技术领域
本发明涉及一种分子筛膜的制备方法,尤其是涉及一种合成DDR分子筛膜的方法。
背景技术
分子筛膜是在多孔载体上制备一层连续、致密、均匀的分子筛而得到。由于无机分子筛膜具有孔径均一、耐高温、抗化学溶剂及可进行离子交换等优点,因此在膜催化反应、气体分离、液体渗透汽化分离及环境保护等领域有巨大的应用潜力。例如,在CO2脱除领域,由于膜分离装置具有能耗低、连续性操作、设备投资低、体积小、易维护等优点,因此非常适合高CO2含量的苛刻分离环境。DDR分子筛(其国际分子筛协会结构代码为DDR)是一种具有三维孔道结构的全硅型氧合物,骨架结构基本上为硅氧四面体,孔道大小为0.36×0.44nm,接近常见的小分子气体的动力学直径。根据分子筛分效应,DDR分子筛膜适用于小分子混合物的分离,如CO2-CH4、O2-N2、丙烯-丙烷、水-醇等(Journal of Membrane Science 316(2008) 35–45)。DDR分子筛为全Si的骨架结构,具有极高的水热、化学和溶剂稳定性以及强疏水性,因而可将其应用于高温、高压、腐蚀条件、有机溶剂和高湿度等环境,在吸附-分离、气体净化等领域有着重要的应用价值。DDR分子筛膜较其它的亲水性分子筛膜(如SAPO-34分子筛膜)有更好的稳定性,且对原料中的水不敏感,在CO2-CH4分离领域有着更好的应用前景。但DDR分子筛膜的合成(如同DDR 分子筛粉体的合成一样)较为困难,合成时间长,且需要加入大量乙二胺作为溶剂(有毒)。在加入晶种的前提下,通常需要3天(160摄氏度)才能得到高质量的 DDR分子筛膜。而提高合成温度则导致杂相的生成。这些不利条件极大地阻碍了 DDR分子筛膜的工业化应用。
发明内容
本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷,针对传统DDR分子筛膜合成时间长,采用有毒的乙二胺为溶剂等问题而提供一种合成DDR分子筛膜的方法。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:
一种合成DDR分子筛膜的方法,针对传统DDR分子筛膜合成时间长,采用有毒的乙二胺为溶剂等问题,采用金刚烷胺和四乙基氢氧化铵混合模板剂,在高温下快速合成DDR分子筛膜。四乙基氢氧化铵的加入抑制了杂相的生成,而高温合成则大幅提高了晶化速率,导致合成时间的大幅缩短。此外,避免了有毒的乙二胺的使用,有利于环保。所制得的DDR分子筛膜具有较高的CO2-CH4分离性能,具体采用以下方法:
(1)DDR分子筛粉体(通常为5~10微米的大颗粒)经球磨得到粒径小于300 纳米的亚微米级的DDR分子筛晶种;
(2)将硅源、金刚烷胺、四乙基氢氧化铵和水混合得到DDR分子筛膜合成母液;
(3)将DDR分子筛晶种涂覆到多孔载体管上;
(4)将DDR分子筛膜合成母液和多孔载体管置于反应容器中;
(5)反应容器进行水热合成处理,合成结束后,得到膜管经洗涤、干燥;
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