[发明专利]一种合成DDR分子筛膜的方法在审
| 申请号： | 201910779384.4 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN110605029A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 张延风;徐宁;王明全;张野;孔琳 | 申请（专利权）人： | 上海工程技术大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/04;B01D71/02;C01B32/50;C10L3/10;B01D53/22 |
| 代理公司： | 31225 上海科盛知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈亮 |
| 地址： | 201620 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分子筛膜 四乙基氢氧化铵 合成 分子筛 多孔载体管 金刚烷胺 晶种 母液 焙烧 分离选择性 分子筛粉体 混合模板剂 臭氧气氛 快速合成 水热合成 亚微米级 晶化釜 水混合 硅源 活化 晶化 膜管 球磨 涂覆 脱除 洗涤 | ||
1.一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，包括
DDR分子筛粉体经球磨得到亚微米级的DDR分子筛晶种；
将硅源、金刚烷胺、四乙基氢氧化铵和水混合得到DDR分子筛膜合成母液；
将DDR分子筛晶种涂覆到多孔载体管上；
将DDR分子筛膜合成母液和多孔载体管置于晶化釜中；
晶化釜置于烘箱中进行水热合成，合成结束后，得到膜管经洗涤、干燥；
在臭氧气氛下焙烧脱除四乙基氢氧化铵，得到活化的DDR分子筛膜。
2.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，所述硅源选自正硅酸四甲酯、正硅酸四乙酯、硅酸钠、偏硅酸钠、硅溶胶和白炭黑的一种或多种。
3.根据权利要求1或2所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，所述硅源的SiO2、金刚烷胺、四乙基氢氧化铵、水的摩尔比为1：(0.005～0.5)：(0.01～0.2)：(0.05～100)。
4.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，所述DDR分子筛晶种的涂覆方法包括刷涂、浸涂、喷涂或旋涂。
5.根据权利要求4所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，采用浸涂时，DDR分子筛晶种的浓度为0.01～1wt％。
6.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，所述多孔载体管的形状包括单通道管状、多通道管状、平板状或中空纤维管状，材料包括陶瓷、不锈钢、氧化铝、二氧化钛、二氧化锆、二氧化硅、碳化硅或氮化硅，孔径为2～2000纳米。
7.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，所述水热反应的温度为160～240℃，时间为1～12小时。
8.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，焙烧时控制温度为100～300℃，焙烧时间为1～10天，焙烧气氛为臭氧气氛，臭氧浓度1～200毫克/升。
9.根据权利要求1所述的一种合成DDR分子筛膜的方法，其特征在于，将DDR分子筛粉体经球磨破碎为粒径小于300纳米的晶种。
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