[发明专利]多层结构的制备方法

权利要求书

1.一种多层结构的制备方法，包括：

在一反应器中沉积一基底，该基底具有一图案层；

将一金属前驱物引入该反应器中，其中该金属前驱物被该图案层吸收；

通过抽出一过量金属前驱物，以将该过量金属前驱物从该反应器清除；以及

将一反应物引入该反应器中，其中该反应物与该金属前驱物相互反应，以在该图案层上形成一含金属层。

2.如权利要求1所述的制备方法，还包括重复该金属前驱物引入步骤、该过量金属前驱物清除步骤，以及该反应物引入步骤，直至该多层结构具有一期望厚度。

3.如权利要求2所述的制备方法，其中在该反应物引入步骤中被引入的该反应物，与每一次重复的该反应物引入步骤的反应物相同。

4.如权利要求2所述的制备方法，其中在该反应物引入步骤中被引入的该反应物，与不同的重复的该反应物引入步骤的反应物不同。

5.如权利要求1所述的制备方法，其中该金属前驱物包括一含铪化合物或一含锆化合物。

6.如权利要求1所述的制备方法，其中该反应物包括一含氧化合物。

7.如权利要求1所述的制备方法，其中该反应物包括一含氮化合物。

8.如权利要求1所述的制备方法，其中该反应物包括一含氧及氮的化合物。

9.如权利要求1所述的制备方法，其中在该图案层上的该含金属层包括一金属，该金属与包含在该金属前驱物中的金属相同。

10.如权利要求1所述的制备方法，其中该图案层由将一光刻胶层暴露在一图案化辐射下，并显影暴露的该光刻胶层所形成。

11.一种多层结构的制备方法，包括：

在一反应器中沉积一基底，该基底具有一图案层，其中该基底包括有一碳硬遮罩层以及一氮氧化硅层；

将一金属前驱物引入该反应器中，其中该金属前驱物被该图案层所吸收；

通过抽出一过量金属前驱物，以将该过量金属前驱物从该反应器清除；以及

将一反应物引入该反应器中，其中该反应物与该金属前驱物相互反应，以在该图案层上形成一含金属层。

12.如权利要求11所述的制备方法，还包括重复该金属前驱物引入步骤、该过量金属前驱物清除步骤，以及该反应物引入步骤，直至该多层结构具有一期望厚度。

13.如权利要求12所述的制备方法，其中该反应物引入步骤中被引入的该反应物，与每一次重复的该反应物引入步骤的反应物相同。

14.如权利要求12所述的制备方法，其中在该反应物引入步骤中被引入的该反应物，与不同的重复的该反应物引入步骤的反应物不同。

15.如权利要求11所述的制备方法，其中该金属前驱物包括一含铪化合物或一含锆化合物。

16.如权利要求11所述的制备方法，其中该反应物包括一含氧化合物。

17.如权利要求11所述的制备方法，其中该反应物包括一含氮化合物。

18.如权利要求11所述的制备方法，其中该反应物包括一含氧及氮的化合物。

19.如权利要求11所述的制备方法，其中在该图案层上的该含金属层包括一金属，该金属与包含在该金属前驱物中的金属相同。

20.如权利要求11所述的制备方法，其中该图案层由将一光刻胶层暴露在一图案化辐射下，并显影出已暴露的该光刻胶层所形成。