[发明专利]一种光刻胶剥离试验一体机及光刻胶剥离方法

说明书

本发明公开了一种光刻胶剥离试验一体机，包括柜体、设置在柜体内腔底部的基板承载组件、处理液喷射组件、底出液口、与处理液喷射组件和底出液口连通的处理液储槽或处理液源；柜体的侧壁上设置有敞口的出液槽，出液槽的顶端铰接设置有翻转导流板，出液槽的底端通过柜体侧壁的侧出液口与处理液储槽相通；翻转导流板与柜体之间还设置有翻转调节机构；翻转导流板与基板承载组件之间的柜体相对侧壁上分别固定设置有倾斜向下的第一导液板和第二导液板，第一导液板和第二导液板的自由侧边用于密封搭接或者密封叠合设置在翻转导流板的侧边上方，第一导液板的自由侧边位于出液槽的正上方。上述结构可减少置换液中的剥离液带出量，增加置换液回用次数。

技术领域

本发明涉及湿法蚀刻设备技术领域，具体涉及一种光刻胶剥离试验一体机及光刻胶剥离方法。

背景技术

LFT-LCD（薄膜场效应晶体管液晶显示器）生产工艺中，通过溅镀或者化学气象沉积工艺在阵列基板成膜，以光刻胶作为掩膜，通过湿法蚀刻，在膜层上得到所需要的图案，最后采用剥离液作为去除作为掩膜的光刻胶。

CN107817657A中公开了一种湿法剥离设备及其剥离方法，其中提及以下现有技术：常用溶剂系的剥离液中包括乙醇胺和二甲基亚砜。基板剥离后进行水洗时，由于残留在基板表面的剥离液中的乙醇胺溶于水，并生成碱性物质，将造成基板上其他铝质元件的腐蚀现象，最终直接影响到产品的电性并形成mura（显示器亮度不均匀、造成各种痕迹的现象）。在原湿法剥离高压剥离、常压剥离、水洗的基础上，改进的技术方案为在湿法剥离设备中在剥离液剥离单元和水洗单元之间加入置换单元，置换单元中采用置换液冲洗所述基板，去除基板表面的剥离液。上海交通大学工程硕士专业学位论文《光刻胶剥离工艺IPA消减方法研究》中提及置换液通常选用异丙醇。

现有的剥离试验设备中高压剥离、常压剥离和水洗均在同一内腔中完成，剥离液和置换液的回收均通过剥离试验设备底部的管道实现，在现有的剥离试验设备中置换工序的技术缺陷在于：由于高压剥离和常压剥离的温度为70℃以上，因此向工件喷洒异丙醇时，异丙醇雾化或者挥发并经由剥离试验设备顶部排出，废气中异丙醇含量增加，进而增加了废气处理难度；回收的异丙醇中剥离液含量增加，可回用次数低。另外，对于不同的剥离试剂，剥离、置换、水洗的步骤间隔时间短，现有的剥离试验设备中仅通过温度自然变化确定最适剥离工艺参数，无法模拟规模生产中的温度分布。

发明内容

本发明的目的之一在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种光刻胶剥离试验一体机，利用翻转导流板，导流剥离液和置换液，减少一体试验过程中置换液中剥离液的带出量。

为了实现上述技术效果，本发明的技术方案为：一种光刻胶剥离试验一体机，包括柜体、设置在柜体内腔底部的基板承载组件、设置在所述基板承载组件上方的处理液喷射组件、设置在所述柜体底部的底出液口、与所述处理液喷射组件和底出液口连通的处理液储槽或处理液源；其特征在于，

柜体的侧壁上设置有敞口的出液槽，出液槽的顶端铰接设置有翻转导流板，出液槽的底端通过所述柜体侧壁的侧出液口与所述处理液储槽相通；翻转导流板与所述柜体之间还设置有翻转调节机构；所述翻转导流板与基板承载组件之间的柜体相对侧壁上分别固定设置有倾斜向下的第一导液板和第二导液板，所述第一导液板和第二导液板的自由侧边与固定侧边相对，所述第一导液板和第二导液板的自由侧边用于密封搭接或者密封叠合设置在翻转导流板的侧边上方，第一导液板的自由侧边位于出液槽的正上方。

优选的技术方案为，翻转导流板内设置有冷却元件。

优选的技术方案为，翻转导流板的端边与所述柜体的内表面之间设置有柔性密封条。

优选的技术方案为，翻转调节机构包括设置在翻转导流板铰接处与第二导液板之间的聚四氟乙烯柔性索，聚四氟乙烯柔性索的一端与翻转导流板连接，另一端通过卷轴与电机连接。

优选的技术方案为，基板承载组件上方设置有风刀组件。