[发明专利]研磨装置在审
申请号: | 201910762925.2 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN112388506A | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 黄重育;黄凯斌;谈文毅 | 申请(专利权)人: | 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30;B24B41/00;B24B41/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 361100 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨装置,其特征在于,包括:
平台,承载工件,该工件具有研磨面直接接触该平台;
研磨头;以及
盖层,环绕于该研磨头的外侧,其中,该盖层对位于该工件外侧的一侧缘,且该盖层的尺寸大于该研磨头的尺寸。
2.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该研磨头与该盖层施加一相同压力至该工件的各部位。
3.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该盖层直接接触该平台。
4.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该盖层与该工件的该研磨面具有相同的蚀刻选择比。
5.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该盖层与该工件的该研磨面具有相同的材质。
6.依据权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该盖层包括金属材质或介电材质。
7.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该盖层的尺寸为该工件尺寸的二分之三倍至三分之四倍。
8.依据权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该研磨装置还包括:
保持环,环设于该研磨头的该外侧,介于该盖层与该研磨头之间。
9.依据权利要求8所述的研磨装置,其特征在于,该保持环的尺寸等于该研磨头的尺寸。
10.依据权利要求8所述的研磨装置,其特征在于,该保持环包括塑胶或铁氟龙。
11.依据权利要求8所述的研磨装置,其特征在于,该盖层于一水平方向的厚度大于该保持环的厚度。
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