[发明专利]一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法

说明书

本发明提出了一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法，属于表面镀钛处理技术领域，特别是涉及一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法。解决了现有镀钛装置及方法会导致器械表面的钛镀层不均匀、生产效益低和通用性差的问题。它包括真空室、底座、动力机构、货杆、放电电源和磁控靶位，所述底座同心设置于真空室内，所述底座与动力机构相连，所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位，所述中心靶位上套接环柱状钛靶，所述立式靶位数量为多个，多个立式靶位沿真空室圆周方向均布在真空室内壁上，每个立式靶位上均装有三个圆形钛靶，所述环柱状钛靶和圆形钛靶均与放电电源相连，所述货杆与底座通过行星机构相连。它主要用于医疗器械表面镀钛处理。

技术领域

本发明属于表面镀钛处理技术领域，特别是涉及一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法。

背景技术

医疗器械，包括手术器材、植入物等，在生活和医学领域得到了广泛应用，钛具有生物相容性等性能，由于成本和性能等方面考虑，很多医疗器械本体采用了非钛合金成形，就需要在医疗器械本体表面进行钛薄膜的沉积，以实现表面功能化。目前镀钛主要采用真空镀法，但这些装置及处理方法也存在一些问题：1.由于溅射角度和视线所限，器械表面的钛镀层不均匀；2.由于真空设备空间所限，生产效益低；3.由于钛镀层的功能性需求不同，放电形式不能实现通用性。如何提高医疗器械本体表面钛薄膜功能化，以实现产业化生产要求，一直是努力方向。

发明内容

本发明为了解决现有技术中的问题，提出一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：一种医疗器械表面镀钛处理装置，它包括真空室、底座、动力机构、货杆、放电电源和磁控靶位，所述真空室为立式圆筒形结构，所述底座同心设置于真空室内，所述底座与动力机构相连，所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位，所述中心靶位与底座中心固定相连，所述中心靶位上套接环柱状钛靶，所述立式靶位数量为多个，多个立式靶位沿真空室圆周方向均布在真空室内壁上，每个立式靶位上均装有三个圆形钛靶，所述环柱状钛靶和圆形钛靶均与放电电源相连，所述货杆数量为多个，多个货杆沿中心靶位圆周方向均布在底座上，所述货杆与底座通过行星机构相连。

更进一步的，所述真空室与通气控制系统和抽气控制系统相连。

更进一步的，所述真空室一侧开设有真空室门，所述真空室高为2000mm，内直径为1300mm。

更进一步的，所述中心靶位为立式柱状靶位，所述环柱状钛靶高为1500mm，内直径为120mm，厚度为20mm。

更进一步的，所述立式靶位数量数量为四个，所述圆形钛靶直径为250mm，厚度为20mm。

更进一步的，所述货杆为圆柱形挂式结构，数量为四个，所述货杆高度为1500mm直径为100mm。

更进一步的，所述动力机构为调速电机。

本发明还提供了一种医疗器械表面镀钛处理方法，它包括以下步骤：

步骤一：将待处理的医疗器械放置在货杆上，关闭真空室门，开启动力机构，使底座与中心靶位同向旋转，货杆围绕中心靶位反向公转并反向自转，达到转动稳定；

步骤二：启动抽气控制系统，保持真空室内本底真空度为0.001－0.01Pa，打开通气控制系统，向真空室内填充惰性气体，维持真空室内的工作真空度保持在1-5Pa；

步骤三：开启放电电源，放电电源进行溅射对医疗器械表面镀钛，溅射时间为20-60min；

步骤四：处理完成后，关闭放电电源、动力机构、抽气控制系统和通气控制系统，通入空气至大气压，开启真空室门，从货杆上取下已完成表面镀钛处理的医疗器械。

更进一步的，所述步骤二中惰性气体为氩气。