[发明专利]晶片级测试方法和系统在审
申请号: | 201910751987.3 | 申请日: | 2019-08-15 |
公开(公告)号: | CN110888032A | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 军·何;林裕庭;林威勋;郭永良;卢胤龙 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;G01R31/28 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 龚诗靖 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 测试 方法 系统 | ||
【权利要求书】:
1.一种方法,其包括:
提供上面形成有集成电路IC的晶片;
通过使所述IC的电压在第一周期期间升高到第一电压电平来为所述IC供能;
向所述IC施加在所述第一周期之后的第二周期期间包含多个序列的应力信号,所述序列中的每一者具有斜升阶段和斜降阶段,其中所述应力信号致使所述IC的所述电压在第二电压电平与第三电压电平之间变动;以及
在施加所述应力信号之后,确定所述IC是否符合测试准则。
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