[发明专利]半导体装置及存储器系统有效

专利信息
申请号: 201910733159.7 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN111583979B 公开(公告)日: 2023-10-13
发明(设计)人: 安田阳平;栉部秀文;八木利弘 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: G11C11/40 分类号: G11C11/40;G11C11/36;G11C5/14;H03F1/30;H03F3/45
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 存储器 系统
【说明书】:

一实施方式提供一种能够使差动放大电路的动作电压范围宽域化的半导体装置及存储器系统。根据一实施方式,在半导体装置的第1差动放大电路中,第1晶体管用栅极接受输入信号。第2晶体管和第1晶体管构成差动对。第2晶体管用栅极接受参照信号。第3晶体管与第1晶体管串联地连接。第4晶体管与第2晶体管串联地连接。第5晶体管配设在输出侧。第5晶体管和第4晶体管形成第1电流反射镜电路。第6晶体管与第4晶体管并联地连接于第2晶体管的漏极。第6晶体管和第5晶体管形成第2电流反射镜电路。第1放电电路连接在第6晶体管的源极上。

本申请以日本专利申请2019-27849号(申请日:2019年2月19日)为基础主张优先权,这里包含其全部内容。

技术领域

本实施方式涉及半导体装置及存储器系统。

背景技术

在包括用构成差动对的一对晶体管分别接受输入信号及参照信号的差动放大电路的半导体装置中,使用电源电压将输入信号及参照信号的差放大而生成差信号。此时,希望使差动放大电路的动作电压范围宽域化。

发明内容

本发明提供一种能够使差动放大电路的动作电压范围宽域化的半导体装置及存储器系统。

根据一技术方案,提供一种具有第1差动放大电路的半导体装置。第1差动放大电路具有第1晶体管、第2晶体管、第3晶体管、第4晶体管、第5晶体管、第6晶体管和第1放电电路。第1晶体管用栅极接受输入信号。第2晶体管和第1晶体管构成差动对。第2晶体管用栅极接受参照信号。第3晶体管与第1晶体管串联地连接。第4晶体管与第2晶体管串联地连接。第5晶体管配设在输出侧。第5晶体管和第4晶体管形成第1电流反射镜电路。第6晶体管与第4晶体管并联地连接于第2晶体管的漏极。第6晶体管和第5晶体管形成第2电流反射镜电路。第1放电电路连接在第6晶体管的源极上。

附图说明

图1是表示有关第1实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图2是表示有关第2实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图3是表示有关第3实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图4是表示有关第4实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图5是表示有关第4实施方式的变形例的半导体装置的结构的电路图。

图6是表示有关第5实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图7是表示有关第5实施方式的变形例的半导体装置的结构的电路图。

图8是表示有关第6实施方式的半导体装置的结构的电路图。

图9是表示能够应用有关第1实施方式~第6实施方式及它们的变形例的半导体装置的存储器系统的结构的电路图。

具体实施方式

以下,参照附图详细地说明有关实施方式的半导体装置。另外,并不由该实施方式限定本发明。

(第1实施方式)

有关第1实施方式的半导体装置包括差动放大电路。差动放大电路用构成差动对的一对晶体管分别接受输入信号及参照信号。差动放大电路使用电源电压将输入信号及参照信号的差放大而生成差信号。有时在半导体存储器的高速接口的接收器中使用包括差动放大电路的半导体装置。此时,希望使差动放大电路的动作高速化。

例如,在差动放大电路中,有在输入信号侧和参照信号侧分别设置有辅助电路的结构,所述辅助电路纵联着和输出侧的晶体管形成电流反射镜的二极管连接的晶体管以及用栅极接受信号的晶体管。通过这些辅助电路,能够根据输入信号使电流反射镜的反射比变化,能够使差动放大电路高速地动作。即,能够通过辅助电路的效果使差动放大电路整体的增益增大,带来差动放大电路的高速化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910733159.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top