[发明专利]一种外延生长基座

权利要求书

1.一种外延生长基座，其特征在于，包括：

底座，所述底座的外缘周向间隔设有若干贯穿所述底座的气体通道；

环形承载台，用于承载晶圆，所述环形承载台围设于所述底座外，所述环形承载台的上表面的高度高于所述底座的上表面的高度；

所述气体通道包括：

至少一个分支点；

多条分通道，其中，每一分支点连接至少两条分通道，通过一分支点连通的两条分通道之间具有弯折角，形成弯曲的分通道，避免光源对晶圆背面直接照射。

2.根据权利要求1所述的一种外延生长基座，其特征在于，至少一条所述分通道的开口设于所述底座的上表面、至少一条所述分通道的开口设于所述底座的下表面。

3.根据权利要求2所述的一种外延生长基座，其特征在于，所述分支点的数量为一个，所述分通道的数量为三条，其中一条所述分通道的开口设于所述底座的上表面，另外两条所述分通道的开口设于所述底座的下表面，或，其中一条所述分通道开口设于所述底座的下表面，另外两条所述分通道的开口设于所述底座的上表面。

4.根据权利要求2所述的一种外延生长基座，其特征在于，所述分支点的数量为一个，所述分通道的数量为四条，其中一条所述分通道的开口设于所述底座的上表面，另外三条所述分通道的开口设于所述底座的下表面，或，其中一条所述分通道的开口设于所述底座的下表面，另外三条所述分通道的开口设于所述底座的上表面。

5.根据权利要求1所述的一种外延生长基座，其特征在于，还包括：

若干支撑孔，所述若干支撑孔周向间隔设于所述底座外缘并贯穿所述底座。

6.根据权利要求1所述的一种外延生长基座，其特征在于，所述底座的上表面呈曲面。

7.根据权利要求1所述的一种外延生长基座，其特征在于，还包括：

环形凸台，所述环形凸台围设于所述环形承载 台的外缘。