[发明专利]保持装置、光刻装置以及物品的制造方法

说明书

提供一种保持装置、光刻装置以及物品的制造方法，所述保持装置保持板件，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。

技术领域

本发明涉及保持装置、光刻装置以及物品的制造方法。

背景技术

在作为半导体元件、液晶显示元件、摄像元件、薄膜磁头以及其他器件的制造工序之一的光刻工序中，使用曝光装置。曝光装置将形成于掩模的图案的像投影到涂敷有光致抗蚀剂(光敏剂)的晶圆、玻璃板等基板，并将该基板曝光。

在曝光装置中，通过使设置于掩模的基准标记与设置于掩模载台的基准标记对准，从而使掩模(的图案)相对于掩模载台高精度地定位。由于在这样的掩模相对于掩模载台的高精度的定位中一般使用对准观察仪(对准光学系统)，因此对基准标记的视野范围受限。在向掩模载台搬运掩模的掩模搬运单元中，由于其搬运精度(放置位置精度)不足，因此有时无法将掩模(的基准标记)搬运到对准观察仪的视野范围。

于是，在曝光装置中，在掩模搬运单元将掩模搬运到掩模载台之后，进行用于将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围的定位处理。在该定位处理中，首先从设置于掩模载台的掩模保持面的孔喷出空气而对掩模的下表面侧赋予正压，从而使掩模从掩模载台上浮。然后，在掩模上浮的状态下，使用气缸等机械性按压部件将掩模(的侧面)按压到作为定位的基准的基准销，从而将掩模的基准标记配置在对准观察仪的视野范围。

在日本特开平9-325309号公报、日本特开2000-183136号公报以及日本特开平9-8106号公报中，提出了与这样的定位处理相关的技术。在日本特开平9-325309号公报中，提出了在对基板(掩模)的下部赋予正压而使基板上浮的状态下使载置基板的载台倾斜，从而使基板抵接于作为基准的位置的技术。在日本特开2000-183136号公报中，公开了在使用设置于载台的提起机构提起基板(掩模)并倾斜的状态下，使基板的侧面抵接于定位销的技术。在日本特开平9-8106号公报中，公开了通过使供给到设置于载台的衬垫的空气的压力、流量变化而使基板倾斜并抵接于基准销的技术。

然而，关于日本特开平9-325309号公报以及日本特开2000-183136号公报中所公开的技术，当应用到不断大型化的FPD曝光装置时，载置基板的载台、使基板自身倾斜的机构也大型化，从而成本增加。此外，如在日本特开平9-8106号公报中所公开的技术那样，如果只是使向基板的下表面侧供给的空气的压力、流量变化，则难以应对当前使用的那样的大型的基板。特别是在为掩模的情况下，由于无法支承形成了图案的中心部，而仅能够在周边部支承掩模，因此更加难以应用日本特开平9-8106号公报中所公开的技术。

发明内容

本发明提供一种有利于对板件进行定位并保持的保持装置。

作为本发明的一个方面的保持装置是保持板件的保持装置，其特征在于，具有：载置台，载置所述板件；基准部件，设置于所述载置台，作为所述板件的相邻的第一侧面以及第二侧面的定位的基准；按压部件，设置于所述载置台，以使所述板件的所述第一侧面以及所述第二侧面抵接于所述基准部件的方式分别按压所述板件的所述第一侧面的相反侧的第三侧面以及所述第二侧面的相反侧的第四侧面；以及供给部，以使所述板件向从所述按压部件朝向所述基准部件的方向倾斜而在所述载置台上滑动的方式从所述载置台朝向所述板件供给气体。